[发明专利]一种用于铌酸锂基声表面波器件的水冷平台、水冷散热装置及其使用方法

权利要求书

1.一种用于铌酸锂基声表面波器件的水冷平台，其特征在于：所述水冷平台包括由上至下依次设置的上盖板、热电偶支撑层、隔板、散热层和下基板，所述上盖板、热电偶支撑层、隔板、散热层及下基板的边缘均形成有2个向外凸出的连接板，所述水冷平台包括设置在中心的聚焦区和设置在所述聚焦区外围的外围区；

所述热电偶支撑层上设有与聚焦区对应设置的聚焦区热电偶和与外围区对应设置的外围区热电偶，以用于通过聚焦区热电偶和外围区热电偶分别测量聚焦区及外围区的温度，所述热电偶支撑层的连接板下表面与隔板的连接板上表面之间形成聚焦导线口和外围导线口，所述聚焦区热电偶通过导线与聚焦导线口电连接，所述外围区热电偶通过另一导线与外围导线口电连接以用于所述聚焦区热电偶及外围区热电偶通过两个导线口与外部的控制电路电连接；

所述散热层的连接板上表面与隔板的连接板下表面之间分别形成有外围区冷液口和聚焦区冷液口，所述外围区冷液口与聚焦区冷液口与外部的供水装置连接，所述散热层上设有位于聚焦区的聚焦循环通道和位于外围区的外围循环通道，所述外围区冷液口与所述外围循环通道连通以用于向外围输入和/或输出冷液，所述聚焦循环通道与所述聚焦区冷液口连通以用于向聚焦区输入和/或输出冷液，所述聚焦循环通道与外围循环通道之间不连通，以用于分别对所述聚焦区及外围区进行散热。

2.根据权利要求1所述的水冷平台，其特征在于：所述聚焦循环通道包括第一聚焦循环通道和第二聚焦循环通道，所述第一聚焦循环通道为圆形，所述第二聚焦循环通道为矩形，所述第二聚焦循环通道的一端与第一聚焦循环通道连通，另一端与散热层上的聚焦区冷液口连通。

3.根据权利要求2所述的水冷平台，其特征在于：所述聚焦区冷液口包括聚焦区进液口和聚焦区出液口，所述第二聚焦循环通道的中间设有分隔条以用于形成聚焦进液通路与聚焦出液通路，聚焦进液通路与聚焦区进液口连通，聚焦出液通路与聚焦区出液口连通，冷液从聚焦区进液口输入后再先后依次经过聚焦进液通路、第一聚焦循环通道、聚焦出液通路和聚焦区出液口而实现冷液循环。

4.根据权利要求3所述的水冷平台，其特征在于：所述外围循环通道为设置在所述散热层上除最内侧的聚焦循环通路以外的其余通路，所述外围循环通道包括对称设置的2个半环形的外围进液通路及外围出液通路，外围进液通路与外围出液通路之间通过分隔条独立分离设置，外围进液通路与外围出液通路均为蛇形盘绕，所述外围进液通路、外围出液通路和聚焦循环通道构成一个圆形，所述外围进液通路与外围出液通路沿圆形的径向对称设置，所述第一聚焦循环通道位于外围进液通路所在半圆形的圆心位置，第二聚焦循环通道位于外围出液通路与外围进液通路之间并与聚焦区冷液口连通，外围进液通路和外围出液通路与最靠近第一聚焦循环通道的一端相连通。

5.根据权利要求4所述的水冷平台，其特征在于：所述外围区冷液口包括外围区进液口和外围区出液口，所述外围进液通路与外围区进液口连通，外围出液通路与外围区出液口连通，冷液从外围区进液口输入再先后经过外围进液通路、外围出液通路及外围区出液口而实现冷液循环。

6.根据权利要求5所述的水冷平台，其特征在于：所述水冷平台的厚度为4mm，所述上盖板与下基板的厚度相同，所述厚度为0.8-1mm，所述隔板、散热层的厚度小于上盖板及下基板的厚度，所述隔板及散热层的厚度为0.3-0.5mm。

7.一种基于权利要求6所述的水冷平台的水冷散热装置，其特征在于：包括权利要求6所述的水冷平台，水管和水泵；

所述水冷平台的聚焦区冷液口及外围区冷液口分别通过水管与水泵连接以用于向所述水冷平台的散热层输送和/或输出冷液而进行散热。

8.根据权利要求7所述的水冷散热装置，其特征在于：所述水冷散热装置还包括控制电路，所述控制电路通过导线经所述聚焦导线口和外围导线口与聚焦区热电偶及外围区热电偶电连接。

9.一种基于权利要求8所述的水冷散热装置的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)聚焦区热电偶、外围区热电偶监测水冷平台上的聚焦区与外围区的温度；

(2)当聚焦区与外围区的温差大于预设阈值时，控制电路向水泵发出指令，降低外围区的介质循环流速，以使外围区温度升高，缩小聚焦区与外围区的温差；直至该温差在预设阈值范围内；

(3)当聚焦区与外围区的温差小于预设阈值时，控制电路向水泵发出指令，增加外围区的介质循环流速，以使外围区温度降低，增大聚焦区与外围区的温差，直至该温差在预设阈值范围内。