[发明专利]基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法有效
申请号: | 202010099942.5 | 申请日: | 2020-02-18 |
公开(公告)号: | CN111258044B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 戴琼海;吴嘉敏;张国勋 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;G06T17/00;G06T7/73 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 王艳斌 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 反射 扫描 pi 显微 成像 方法 | ||
1.一种基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法,其特征在于,包括:
在显微成像系统中,放置反射镜在样本上方,将微透镜阵列放置在显微镜成像的像面位置;
通过纳米级快速平移台搭载微透镜阵列在像面平移进行亚像素扫描,采集样本的空间频率分量信息;
根据所述样本的空间频率分量信息和非相干数值孔径融合算法以及经过解混叠的重建算法进行类4pi显微成像。
2.根据权利要求1所述的基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法,其特征在于,
根据所述显微成像系统中物镜的参数估算所述反射镜与所述样本的距离。
3.根据权利要求1所述的基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法,其特征在于,在采集样本的空间频率分量信息时,将系统焦面放置在所述反射镜的镜面上,以保证所述样本的真实信息和所述反射镜里的信息均进行采集。
4.根据权利要求1所述的基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法,其特征在于,在进行类4pi显微成像时,通过对所述样本和所述反射镜同时移动来采集点扩散函数。
5.根据权利要求1所述的基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法,其特征在于,根据所述样本的空间频率分量信息进行类4pi显微成像中,基于最大拟然估计的解卷积算法,在进行解卷积三维重建时,加入数字自适应像差矫正算法,根据对于线性像差的估计可以对线性像差进行矫正。
6.根据权利要求1所述的基于反射镜扫描光场的类4pi显微成像方法,其特征在于,所述显微成像系统包括:多个反射镜、物镜、二相色镜、管透镜、微透镜阵列、二维纳米级平移台、旋转装置、多个透镜组、采集相机;
二相色镜用于将激发光和被激发光分开,所述反射镜为镀银反射镜,旋转装置中间有通光孔径,用于大角度调整微透镜阵列和相机像素取向一致。
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