[发明专利]一种自修复材料及其制备方法有效
申请号: | 202010103009.0 | 申请日: | 2020-02-19 |
公开(公告)号: | CN111269353B | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
发明(设计)人: | 韩飞;纪飞;张国旗;叶怀宇;张愿;刘旭 | 申请(专利权)人: | 深圳第三代半导体研究院 |
主分类号: | C08F220/34 | 分类号: | C08F220/34;C08F220/58;C08F220/54;C08F8/42;C08F2/48 |
代理公司: | 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 | 代理人: | 彭随丽 |
地址: | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 修复 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种自修复材料,其特征在于:自修复材料原料包括:含有C=C双键和提供N原子上孤电子对的结构碱性单体,并通过调节碱性单体的用量调节溶液pH,所述pH≥9;
所述碱性单体选自:甲基丙烯酸二甲氨乙酯和N,N-二甲基丙烯酰胺;自修复材料原料还包括:水,含羟基的亲水性单体,1,4-苯二硼酸,光引发剂;
所述自修复材料原料用量比例为:甲基丙烯酸二甲氨乙酯30wt%-50 wt%,N,N-二甲基丙烯酰胺5wt%-40 wt%。
2.如权利要求1所述的一种自修复材料,其特征在于:所述自修复材料原料用量比例为:水10wt%-30 wt%,含羟基的亲水性单体1wt%-10 wt%,1,4-苯二硼酸0.5wt%-5 wt%,光引发剂0.1wt%-1 wt%。
3.如权利要求1所述的一种自修复材料,其特征在于:所述含羟基的亲水性单体为N-羟甲基丙烯酰胺。
4.如权利要求1所述的一种自修复材料,其特征在于:所述光引发剂选自:1-羟基环己基苯基甲酮,2-异丙基硫杂蒽酮,2,4-二乙基噻唑酮,4-苯基二苯甲酮。
5.一种自修复材料的制备方法,其特征在于:包括以下制备步骤:
S1.将甲基丙烯酸二甲氨乙酯30-50 wt%,N-羟甲基丙烯酰胺1wt%-10 wt%,1,4-苯二硼酸0.5wt%-5 wt%,光引发剂0.1wt%-1 wt%,加入水10wt%-30 wt%中,得到第一混合溶液;
S2.将所述第一混合溶液,加入N,N-二甲基丙烯酰胺中,超声混合,使所述1,4-苯二硼酸完全溶解至无色,搅拌均匀,测量溶液的pH,得到第二混合溶液;
S3.去除第二混合溶液中的空气,随后对溶液进行氮气鼓泡操作30s-120s得到第三混合溶液;
S4.将所述第三混合溶液置于模具中,并放置在紫外灯下照射,脱模既得自修复材料。
6.如权利要求5所述的一种自修复材料的制备方法,其特征在于:所述第一混合溶液与N,N-二甲基丙烯酰胺的质量比例为1~10:1。
7.如权利要求5所述的一种自修复材料的制备方法,其特征在于:所述紫外灯照射条件为:紫外灯功率为20-320 m W/cm2的条件下,光照300 s-900 s。
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