[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202010103965.9 申请日: 2020-02-20
公开(公告)号: CN113285041A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 秦元贞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;张博
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。其中,显示基板,包括:位于衬底基板上阵列排布的多个像素;位于所述像素远离所述衬底基板一侧的遮光图形,所述遮光图形在所述衬底基板上的正投影与相邻像素之间的间隙在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域;位于所述像素的出光侧、且位于所述遮光图形靠近所述衬底基板一侧的光取出结构,所述光取出结构的出光方向为所述光取出结构远离所述像素的方向,所述光取出结构在所述衬底基板上的正投影与所述像素在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域。本发明的技术方案能够提高显示基板的出光效率,并且避免出现图像模糊。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

相关技术中,为了提高显示基板的出光效率,在显示基板的出光侧设置光取出结构,但光取出结构取出的光线会经相邻像素出射,造成图像模糊的问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,能够提高显示基板的出光效率,并且避免出现图像模糊。

为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:

一方面,提供一种显示基板,包括:

位于衬底基板上阵列排布的多个像素;

位于所述像素远离所述衬底基板一侧的遮光图形,所述遮光图形在所述衬底基板上的正投影与相邻像素之间的间隙在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域;

位于所述像素的出光侧、且位于所述遮光图形靠近所述衬底基板一侧的光取出结构,所述光取出结构的出光方向为所述光取出结构远离所述像素的方向,所述光取出结构在所述衬底基板上的正投影与所述像素在所述衬底基板上的正投影存在重叠区域。

可选地,还包括:

覆盖所述多个像素的封装层;

所述遮光图形位于所述封装层远离所述像素的一侧,所述遮光图形采用导电材料,复用为触控电极。

可选地,所述触控电极包括位于同一层的多个相互独立的触控子电极;或

所述触控电极包括位于同一层、沿第二方向排布的第一触控子电极和沿第三方向排布的第二触控子电极,所述第三方向与所述第二方向相互交叉,相邻第二触控子电极之间直接连接,相邻第一触控子电极之间通过异层的触控电极架桥连接。

可选地,所述触控电极采用金属网格,每一金属网格对应所述显示基板的一个像素,所述像素在所述衬底基板上的正投影与对应金属网格限定出的镂空区域在所述衬底基板上的正投影重合。

可选地,所述光取出结构包括一个光取出层;或者,包括从靠近所述衬底基板到远离所述衬底基板的方向上、依次排布的至少两个光取出层。

可选地,所述光取出层包括第一光取出层,所述第一光取出层包括层叠设置的至少两层透光材料层,从靠近所述衬底基板到远离所述衬底基板的方向上、透光材料层的折射率呈递增趋势或透光材料层的折射率呈高低交替排布的趋势。

可选地,所述第一光取出层包括层叠设置的第一透光材料层和第二透光材料层,所述第二透光材料层位于所述第一透光材料层远离所述衬底基板的一侧,所述第一透光材料层朝向所述第二透光材料层的一侧表面设置有多个凹槽。

可选地,所述显示基板包括覆盖所述多个像素的封装层,所述封装层包括无机绝缘层,所述透光材料层复用所述无机绝缘层,所述无机绝缘层远离所述像素的一侧表面和/或靠近所述像素的一侧表面设置有多个凹槽。

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