[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，具有显示区；

所述显示面板包括相互对合的阵列基板和对盒基板、以及设置于所述阵列基板与所述对盒基板之间的封框胶；

所述阵列基板包括平坦层；沿所述阵列基板指向所述对盒基板的方向，所述平坦层包括依次层叠设置的第一无机绝缘层、有机绝缘层、第二无机绝缘层，所述阵列基板还包括设置于所述有机绝缘层与所述第二无机绝缘层之间的交联图案；其中，

所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层的边沿超出所述有机绝缘层的边沿；所述交联图案覆盖所述有机绝缘层的侧面和靠近所述对盒基板的表面；所述交联图案位于所述封框胶背离所述显示区一侧；

所述阵列基板还包括设置于所述交联图案与所述第二无机绝缘层之间的保护层，所述保护层在所述对盒基板上的正投影与所述交联图案在所述对盒基板上的正投影完全重叠；所述保护层用于作为掩膜以得到所述交联图案。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机绝缘层包括沟槽，所述沟槽在所述对盒基板上的正投影与所述封框胶在所述对盒基板上的正投影重叠。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置于所述有机绝缘层与所述第二无机绝缘层之间的第一电极；

所述第一电极至少位于所述显示区，所述第一电极与所述保护层同层同材料。

4.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述的显示面板。

5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板具有显示区，所述显示面板的制备方法，包括：

分别形成阵列基板和对盒基板，并利用封框胶使所述阵列基板与所述对盒基板对合；

形成所述阵列基板，包括：

在衬底上依次形成第一无机绝缘层和有机绝缘层；

在所述有机绝缘层背离所述衬底一侧形成交联图案和保护层，所述保护层位于所述交联图案背离所述衬底一侧；所述交联图案和所述保护层位于所述封框胶背离所述显示区一侧，且所述交联图案和所述保护层在所述衬底上的正投影完全重叠；所述保护层用于作为掩膜以得到所述交联图案；

在所述有机绝缘层背离所述衬底一侧形成第二无机绝缘层，所述第一无机绝缘层、所述有机绝缘层、以及所述第二无机绝缘层构成平坦层；其中，

所述第一无机绝缘层和所述第二无机绝缘层的边沿超出所述有机绝缘层的边沿；所述交联图案覆盖所述有机绝缘层的侧面和靠近所述对盒基板的表面。

6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述有机绝缘层背离所述衬底一侧形成交联图案和保护层，包括：

对所述有机绝缘层进行等离子体处理，以形成交联层；

在所述交联层背离所述衬底一侧形成保护层；

以所述保护层为掩模，对所述交联层进行等离子体处理，以形成所述交联图案。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

对所述有机绝缘层进行等离子体处理，以形成交联层，包括：

利用氦气或氩气中的一种，对所述有机绝缘层背离所述衬底的表面进行等离子体处理；

对所述交联层进行处理，以形成所述交联图案，包括：

利用氮气、氧气、氢气中的一种，对所述交联层进行等离子体处理，以形成所述交联图案；

其中，对所述有机绝缘层背离所述衬底的表面进行等离子体处理，和对所述交联层进行等离子体处理的时间和功率均相同。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，对所述有机绝缘层背离所述衬底的表面进行等离子体处理，和对所述交联层进行等离子体处理的时间范围为10～30s、功率范围为8～24kw。

9.根据权利要求5-8任一项所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述阵列基板还包括位于所述显示区的第一电极；所述保护层与所述第一电极通过同一次构图工艺形成。