[发明专利]一种微米级二氧化硅气泡的应用

权利要求书

1.一种微米级二氧化硅气泡的应用，其特征在于，所述微米级二氧化硅气泡用作超声造影剂，用作超声造影剂时的所述微米级二氧化硅气泡平均粒径为1.5μm～10μm，所述微米级二氧化硅气泡的结构是：在二氧化硅气泡载体的表面装载有平均粒径为0.1μm的二氧化硅粒子。

2.根据权利要求1所述的一种微米级二氧化硅气泡的应用，其特征在于，所述微米级二氧化硅气泡的制备方法，包括如下步骤：

(1)将去离子水、含去污剂的水溶液于常温下混合均匀，搅拌状态下，加入正硅酸乙酯，调节pH至2.4，进行水解15min～25min，得到含二氧化硅气泡载体的乳化液；向其中加入含活化剂的水溶液，搅拌5min～15min，然后另外加入二氧化硅粒子悬浮液，在室温下继续搅拌0.5h～1.5h，静置、重力悬浮后进行固液分离，丢弃底部清澈溶液，收集上层固体部分；

(2)将收集得到的固体部分分散于含去污剂的水溶液中，采用离心机进行多次分离纯化，离心时间为5min～50min，干燥后即得到微米级二氧化硅气泡。

3.根据权利要求2所述的一种微米级二氧化硅气泡的应用，其特征在于，所述含去污剂的水溶液为含聚乙二醇辛基苯基醚的水溶液，摩尔浓度为5mmol/L；所述含活化剂的水溶液为含AMPS钠盐的水溶液，摩尔浓度为24mmol/L。

4.根据权利要求2所述的一种微米级二氧化硅气泡的应用，其特征在于，步骤(1)中所述去离子水、含去污剂的水溶液、正硅酸乙酯、含活化剂的水溶液、二氧化硅粒子悬浮液的体积比为500:6:10:6:20；所述二氧化硅粒子悬浮液中二氧化硅粒子的质量浓度为56％，其中二氧化硅粒子的平均粒径为0.1μm。

5.根据权利要求2所述的一种微米级二氧化硅气泡的应用，其特征在于，步骤(1)中所述搅拌的速度为2000rpm～6000rpm；步骤(2)中所述离心的速度为500rpm～1000rpm。

6.根据权利要求2所述的一种微米级二氧化硅气泡的应用，其特征在于，步骤(2)中所述含去污剂的水溶液的质量浓度为0.02％，所述收集得到的固体部分与所述含去污剂的水溶液的质量体积比为4g:50mL。

7.根据权利要求2所述的一种微米级二氧化硅气泡的应用，其特征在于，步骤(2)中所述干燥为室温干燥后将制得的所述微米级二氧化硅气泡置于-40℃下进行真空冷冻干燥24h。