[发明专利]轨迹规划方法、装置、电子设备及计算机可读介质在审
申请号: | 202010106957.X | 申请日: | 2020-02-20 |
公开(公告)号: | CN111338339A | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 李柏 | 申请(专利权)人: | 北京京东乾石科技有限公司 |
主分类号: | G05D1/02 | 分类号: | G05D1/02;G06Q10/04 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 孙宝海;袁礼君 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京经济技*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 轨迹 规划 方法 装置 电子设备 计算机 可读 介质 | ||
1.一种轨迹规划方法,其特征在于,包括:
获取目标对象的第一轨迹;
根据所述第一轨迹构建所述目标对象的第一最优控制问题,并求解所述第一最优控制问题获得所述目标对象的第二轨迹;
根据障碍物信息与所述第二轨迹确定所述目标对象的目标线性约束条件;
根据所述第二轨迹构建包括所述目标线性约束条件的第二最优控制问题,并求解所述第二最优控制问题获得所述目标对象的目标轨迹。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,根据障碍物信息与所述第二轨迹确定所述目标对象的目标线性约束条件包括:
若所述第二轨迹与所述障碍物信息重叠时,则基于预设参数调整所述第二轨迹;
根据所述障碍物信息确定调整后的所述第二轨迹在各采样时刻下不会与障碍物发生碰撞的第一维度邻域、第二维度邻域和第三维度邻域;
根据所述第一维度邻域、所述第二维度邻域和所述第三维度邻域确定所述目标对象的目标线性约束条件。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,根据所述第一维度邻域、所述第二维度邻域和所述第三维度邻域确定所述目标对象的目标线性约束条件,包括:
分别确定所述第一维度邻域、所述第二维度邻域和所述第三维度邻域在均匀分布下的第一维度随机数、第二维度随机数和第三维度随机数;
根据所述第一维度随机数、所述第二维度随机数和所述第三维度随机数确定多个待选组合及各待选组合的体积信息,并剔除与所述障碍物信息重叠的待选组合;
确定剔除后的所述多个待选组合中体积信息最大的待选组合,以作为目标组合;
根据所述目标组合确定所述目标对象的所述目标线性约束条件。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,根据所述目标组合确定所述目标对象的所述目标线性约束条件包括:
根据所述目标组合中的第一维度尺寸、第二维度尺寸与第三维度尺寸确定目标直线信息;
根据所述目标直线信息确定所述目标对象的目标线性约束条件。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,根据所述第一维度随机数、所述第二维度随机数和所述第三维度随机数确定多个待选组合及各待选组合的体积信息包括:
通过蒙特卡洛方法对所述第一维度随机数、所述第二维度随机数和所述第三维度随机数各自组成的数值区间进行处理,获得多个待选组合及其体积信息。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,根据所述第一轨迹构建第一最优控制问题包括:
根据第一预设公式与所述第一轨迹构建第一目标函数;
确定所述第一轨迹的初始时刻约束条件以及在各采样时刻的系统动态方程约束条件;
根据所述第一目标函数、所述初始时刻约束条件和所述系统动态方程约束条件构建所述第一最优控制问题。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,根据所述第二轨迹构建包括所述目标线性约束条件的第二最优控制问题包括:
根据第二预设公式与所述第二轨迹构建第二目标函数;
确定所述第二轨迹的初始时刻约束条件以及在各采样时刻的系统动态方程约束条件;
根据所述第二目标函数、所述初始时刻约束条件、所述系统动态方程约束条件以及所述目标线性约束条件构建所述第二最优控制问题。
8.一种轨迹规划装置,其特征在于,包括:
第一轨迹生成模块,配置为获取目标对象的第一轨迹;
第二轨迹生成模块,配置为根据所述第一轨迹构建第一最优控制问题,并求解所述第一最优控制问题获得所述目标对象的第二轨迹;
线性约束条件模块,配置为根据障碍物信息与所述第二轨迹确定所述目标对象的目标线性约束条件;
目标轨迹规划模块,配置为根据所述第二轨迹构建包括所述目标线性约束条件的第二最优控制问题,并求解所述第二最优控制问题获得所述目标对象的目标轨迹。
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