[发明专利]一种负性光刻胶及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种负性光刻胶，其特征是，以质量份数计，由以下组分组成：树脂基体30～40份，光引发剂0.4～0.5份，活性增感助剂0.01～0.05份，自由基引发剂0.01～0.02份，酸扩散抑制剂0.02～0.05份，活性稀释剂2～7份，溶剂8～13份；其中，树脂基体由丙烯酸双环戊二烯基氧乙酯和环氧丙烯酸树脂组成，丙烯酸双环戊二烯基氧乙酯和环氧丙烯酸树脂的质量比为20～25：10～15；

其中，所述光引发剂为聚苯乙烯碘鎓-六氟锑酸盐；

所述活性增感助剂为9-苯基吖啶；

所述自由基引发剂为过氧化苯甲酰；

酸扩散抑制剂为含有碱性基团的聚合物，结构式如式(1)所示：

其中，R₁为C1-C5的烷基，R₂为C1-C5的烷基，200＜n＜300；

所述活性稀释剂为丙烯酰吗啉。

2.如权利要求1所述的负性光刻胶，其特征是，所述溶剂为乙酸乙二醇乙醚与1,4-丁二醇的混合物。

3.如权利要求2所述的负性光刻胶，其特征是，乙酸乙二醇乙醚与1,4-丁二醇的混合物的质量比为3～5:5～8。

4.一种权利要求1～3任一所述的负性光刻胶的制备方法，其特征是，将树脂基体、光引发剂、活性增感助剂、自由基引发剂、酸扩散抑制剂、活性稀释剂加入至溶剂，搅拌溶解，采用0.5μm以下的过滤器对溶解后的溶液进行过滤，过滤后的溶液为负性光刻胶。

5.如权利要求4所述的负性光刻胶的制备方法，其特征是，树脂基体由丙烯酸双环戊二烯基氧乙酯和环氧丙烯酸树脂组成，丙烯酸双环戊二烯基氧乙酯的制备过程为：将丙烯酸羟乙酯与双环戊二烯在离子液体、阻聚剂的存在下，进行亲电加成反应。

6.如权利要求5所述的负性光刻胶，其特征是，丙烯酸羟乙酯与双环戊二烯的摩尔比为1.2～1.5:1；

或，亲电加成反应的温度为75～80℃，反应时间为6～9h。

7.如权利要求5所述的负性光刻胶，其特征是，所述离子液体为1-甲基-3-(丙基-3-磺酸基)咪唑磺酸盐。

8.如权利要求7所述的负性光刻胶，其特征是，1-甲基-3-(丙基-3-磺酸基)咪唑磺酸盐的制备过程为：将N-甲基咪唑缓慢滴加入等物质的量的1,3-丙烷磺内酯，保持冰浴搅拌1h后升至常温继续搅拌1～1.5h，过滤后沉淀物用乙酸乙酯进行洗涤。

9.如权利要求8所述的负性光刻胶，其特征是，将洗涤后的沉淀物溶于水，然后缓慢滴加等物质的量的硫酸，80～85℃下反应1～1.5h，40～60℃下真空干燥。

10.一种权利要求1～3任一所述的负性光刻胶在液晶显示器和/或半导体中的应用。