[发明专利]VCM弹片的高效制备方法

权利要求书

1.一种VCM弹片的高效制备方法，采用光化学蚀刻技术和喷淋蚀刻机，在经过清洗干燥的基板上掩膜，蚀刻后再进行脱膜和后续处理，其特征在于，所述掩膜操作中，在基板的上表面涂覆光刻胶，采用接触式曝光法，在光刻胶上贴附与VCM弹片对应图案的掩膜版，然后进行曝光处理，曝光后将掩膜版去掉，清除所述基板上表面未固化的光刻胶，烘干5～20min，然后将基板从下表面加热，使基板上表面温度升至光刻胶的玻璃化转变温度，并保持数秒，然后立刻冷却，冷却后的基板下表面贴附保护膜，随后进行蚀刻。

2.根据权利要求1所述的VCM弹片的高效制备方法，其特征在于，所述与VCM弹片对应图案的掩膜版上，在掩膜版图案的中部存在一额外的独立曝光区域，所述独立曝光区域与其他曝光区域间的距离不小于0.2mm，使蚀刻后位于VCM弹片中部本应被刻蚀的部分得以存留并可收集。

3.根据权利要求2所述的VCM弹片的高效制备方法，其特征在于，所述保护膜通过耐蚀刻的胶黏剂与基板下表面连接，在脱膜时，保护膜和蚀刻后位于VCM弹片中部未被刻蚀的部分一同撕下并收集。

4.根据权利要求3所述的VCM弹片的高效制备方法，其特征在于，所述保护膜采用耐蚀刻、易整体剥除的薄膜材料。

5.根据权利要求1所述的VCM弹片的高效制备方法，其特征在于，将基板从下表面加热的同时，对基板上表面采用垂直于基板吹下的干燥冷风冷却，仅使光刻胶底部与基板接触的部分达到玻璃化转变温度。

6.根据权利要求5所述的VCM弹片的高效制备方法，其特征在于，在光刻胶底部与基板接触的部分达到玻璃化转变温度后保持0.5～3s，使光刻胶底部与基板充分结合，之后立刻停止加热，并迅速冷却。

7.根据权利要求6所述的VCM弹片的高效制备方法，其特征在于，所述光刻胶底部与基板接触的部分达到玻璃化转变温度后边界处会产生溢边，溢边量不超过1微米。

8.根据权利要求1所述的VCM弹片的高效制备方法，其特征在于，所述光刻胶在基板上固化后的厚度不小于2微米。

9.根据权利要求1所述的VCM弹片的高效制备方法，其特征在于，采用喷淋蚀刻机对基板进行蚀刻时，蚀刻液的初始喷淋压力为 1.3～1.6psi，蚀刻进行到整体蚀刻时间的1/2～2/3时，增加10%～30%的喷淋压力。