[发明专利]乳化卸妆化妆料在审
| 申请号： | 202010110760.3 | 申请日： | 2020-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN111939102A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 池田恵 | 申请（专利权）人： | 株式会社漫丹 |
| 主分类号： | A61K8/891 | 分类号： | A61K8/891;A61K8/58;A61K8/31;A61K8/81;A61K8/86;A61K8/34;A61K8/02;A61Q1/14;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王博;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 乳化 卸妆 化妆 | ||
【权利要求书】：
1.一种乳化卸妆化妆料，其含有下述成分(A1)、下述成分(A2)、下述成分(B)、下述成分(C)以及下述成分(D)，
成分(A1)：选自由环状硅酮和25℃的运动粘度为0.5～3mm2/s的二甲基聚硅氧烷组成的组中的至少一种硅油；
成分(A2)：选自由辛基聚甲基硅氧烷和25℃的运动粘度为5～10mm2/s的二甲基聚硅氧烷组成的组中的至少一种硅油；
成分(B)：闪点为35～110℃的烃油；
成分(C)：非离子表面活性剂和/或高分子乳化剂；
成分(D)：水。
2.如权利要求1所述的乳化卸妆化妆料，其进一步含有下述成分(E)，
成分(E)：多元醇。
3.如权利要求1或2所述的乳化卸妆化妆料，其为擦去用。
4.一种化妆片，其包含片基材、和浸渗于所述片基材中的权利要求1～3中任一项所述的乳化卸妆化妆料。
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