[发明专利]一种可分区控制进气流量及比例的PECVD匀气装置在审

专利信息
申请号: 202010110843.2 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN113293359A 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 范思大;侯永刚;崔虎山;吴志浩;邹志文;邹荣园;丁光辉;许开东 申请(专利权)人: 江苏鲁汶仪器有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/505
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 徐尔东
地址: 221300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 分区 控制 流量 比例 pecvd 装置
【权利要求书】:

1.一种可分区控制进气流量及比例的PECVD匀气装置,其特征在于:包括上层进气圆盘(10)、中层匀气圆盘(20)、下层匀气圆盘(30),其中:

三个所述圆盘依次上、中、下相叠,所述上层进气圆盘(10)与所述下层匀气圆盘(30)的接触面之间具有凸块-凹槽配合连接结构,同时所述上层进气圆盘(10)与所述下层匀气圆盘(30)的接触面之间通过螺丝与螺孔配合固定连接;

三个所述圆盘分中心环、次内环、外环三圈匀气,三个所述圆盘上中心环轴向形成的区域为中心匀气,三个所述圆盘上次内环轴向形成的区域为中间匀气,三个所述圆盘上外环轴向形成的区域为边缘匀气;

还包括若干圆形进气孔柱(40),若干所述圆形进气孔柱(40)用于给三个所述圆盘的中心环、次内环、外环区域供气;

所述中心匀气、所述中间匀气以及所述边缘匀气均同轴。

2.根据权利要求1所述的一种可分区控制进气流量及比例的PECVD匀气装置,其特征在于:还包括圆环形浅槽a(11)和圆环形浅槽b(12),所述圆环形浅槽a(11)与所述圆环形浅槽b(12)均设于所述上层进气圆盘(10)靠近所述中层匀气圆盘(20)的一面上;所述上层进气圆盘(10)上的中心环区域与次内环区域以所述圆环形浅槽a(11)为界,次内环区域与外环区域以所述圆环形浅槽b(12)为界。

3.根据权利要求2所述的一种可分区控制进气流量及比例的匀气装置,其特征在于:所述圆环形浅槽a(11)直径大于所述圆环形浅槽b(12)直径,所述圆环形浅槽a(11)与所述圆环形浅槽b(12)直径范围均为50~300mm,深度均为3mm,宽度均为2mm。

4.根据权利要求1所述的一种可分区控制进气流量及比例的PECVD匀气装置,其特征在于:所述上层进气圆盘(10)中心环区域圆心处设有一个所述圆形进气孔柱(40),次内环区域和外环区域分别设有四个所述圆形进气孔柱(40)。

5.根据权利要求2所述的一种可分区控制进气流量及比例的PECVD匀气装置,其特征在于:还包括圆环形隔墙a(21)、圆环形隔墙b(22)以及侧墙a(23),所述圆环形隔墙a(21)、所述圆环形隔墙b(22)以及所述侧墙a(23)设在所述中层匀气圆盘(20)靠近所述上层进气圆盘(10)的一面上,所述侧墙a(23)垂直设于所述中层匀气圆盘(20)外圆周处;所述圆环形隔墙a(21)和所述圆环形隔墙b(22)分别嵌入所述圆环形浅槽a(11)和所述圆环形浅槽b(12)内。

6.根据权利要求5所述的一种可分区控制进气流量及比例的PECVD匀气装置,其特征在于:还包括圆环形浅槽c(24)和圆环形浅槽d(25),所述圆环形浅槽c(24)与所述圆环形浅槽d(25)设在所述中层匀气圆盘(20)靠近所述下层匀气圆盘(30)的一面上,所述圆环形隔墙a(21)和所述圆环形隔墙b(22)分别与所述圆环形浅槽c(24)和所述圆环形浅槽d(25)一一对应设置;所述中层匀气圆盘(20)上的中心环区域与次内环区域以所述圆环形隔墙a(21)和所述圆环形浅槽c(24)为界,次内环区域与外环区域以所述圆环形隔墙b(22)和所述圆环形浅槽d(25)为界。

7.根据权利要求6所述的一种可分区控制进气流量及比例的匀气装置,其特征在于:所述圆环形隔墙a(21)直径小于所述圆环形隔墙b(22)直径,所述侧墙a(23)外径为210~310mm,所述圆环形浅槽c(24)直径小于所述圆环形浅槽d(25)直径;所述圆环形隔墙a(21)、所述圆环形隔墙b(22)、所述圆环形浅槽c(24)以及所述圆环形浅槽d(25)直径范围均为50~300mm,高度范围均为18~24mm。

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