[发明专利]一种多步协同表面活化低温混合键合方法有效
申请号: | 202010113428.2 | 申请日: | 2020-02-24 |
公开(公告)号: | CN111243972B | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 王晨曦;康秋实;周诗承;鲁添;何洪文;李珩;戚晓芸;胡天麒 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学;华为技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/603 | 分类号: | H01L21/603 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人: | 高媛 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 协同 表面 活化 低温 混合 方法 | ||
1.一种多步协同表面活化低温混合键合方法,其特征在于:所述方法的具体步骤如下:
步骤一:将含有Cu电极和SiO2绝缘层图案的混合键合样品室温下浸泡于甲酸溶液中,而后在去离子水中超声清洗;
步骤二:采用等离子体对清洗后的Cu/SiO2混合键合样品进行活化;
步骤三:将经等离子体活化后的Cu/SiO2混合键合样品对准贴合后进行热压键合;所述热压键合过程中,热压键合设备采用仅上加热板加热的方法,升温速率为4℃/min,所述上加热板的加热温度为200~240℃,保温时间20~40min,下加热板通过与上加热板接触被动升温,使下加热板温度稳定在130~160℃;
步骤四:对热压键合后的Cu/SiO2混合键合样品进行保温,最终得到混合键合样品对。
2.根据权利要求1所述的一种多步协同表面活化低温混合键合方法,其特征在于:步骤一中,所述甲酸溶液体积浓度为50%,浸泡时间为5~30min。
3.根据权利要求1所述的一种多步协同表面活化低温混合键合方法,其特征在于:步骤一中,所述超声清洗使用去离子水清洗30~60s,并利用氮气吹干所述样品表面。
4.根据权利要求1所述的一种多步协同表面活化低温混合键合方法,其特征在于:步骤一中,超声清洗频率为40KHz,超声清洗功率为80~120W,清洗温度为25±3℃。
5.根据权利要求1所述的一种多步协同表面活化低温混合键合方法,其特征在于:步骤二中,所述等离子体种类为Ar,活化功率为100~300W,活化时间为30~150s。
6.根据权利要求1所述的一种多步协同表面活化低温混合键合方法,其特征在于:步骤三中,所述热压键合过程中,对每对样品施加键合压力为1~4Mpa。
7.根据权利要求1所述的一种多步协同表面活化低温混合键合方法,其特征在于:步骤四中,所述保温温度为200℃,时间为2~8h。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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