[发明专利]用于控制气体污染物分解氧化的装置

说明书

本发明提供一种用于控制气体污染物分解氧化的装置及系统，其新颖的反应部设计可降低流体在处理过程中颗粒形成的现象，进而改善颗粒在反应部中累积的缺陷；此外还提供一种包括上述装置的系统，其模块化设计使得该系统具有容易保养维护的优点。

技术领域

本发明主张于2017年7月7日提出的美国临时申请案62/529,795的优先权，其内容已全部并入本发明中以并参酌。

本发明涉及一种用于气体污染物的装置，尤其涉及一种在半导体或其他工业制造过程中用来控制气体污染物分解氧化的装置。

背景技术

半导体制造过程中所使用的各种的化学物质、以及可能产生的有毒副产品，都会对人体及环境造成重大伤害。该些化学物质举例包括含有锑、砷、硼、锗、氮、磷、硅、硒、卤素、卤素硅烷或全氟化合物(PFCs)的混合气体，或由全氟化合物(PFCs)分解形成的副产物。

习知技术中，这些有害的混合气体或副产物可经由一种用来控制气体污染物分解氧化的装置中的流体加以处理，转化对环境危害较低的产物排放到环境中。

只是现今对于该用来控制气体污染物分解氧化的装置仍有未达到完美之处，譬如，在目前使用的装置中，容易形成氧化硅等颗粒并沉积在该装置的燃烧室的壁上，导致燃烧室堵塞并产生诸如燃烧不完全等问题，为了避免上述问题并延长装置的使用年限，势必得更频繁地进行系统的清洁并在装置的保养上付出更多成本，然此保养程序在人力及金钱的成本上都于厂商而言都是不利的因素。

为了改善上述及其他缺陷，已有许多研究团队积极进行开发。譬如，美国专利公告号US 7,985,379B2为了降低反应过程中所产生的颗粒堆积，将其热反应腔室设计为具有堆叠网状陶瓷环的结构，由于空气从该些网状陶瓷环的孔洞中通过而有如形成边界层般，阻止颗粒在该热反应腔的内壁沉积。于该专利中并提出其他避免颗粒沉积的方法，譬如，对其进气通道内壁进行电抛光使其机械粗糙度(Ra)低于30，使得废气中颗粒不易附着等。

上述方式仅能尽可能地减少颗粒附着，只是成效有限。从另一个角度来看，如何减少颗粒的产生或许也是一个可以着眼的方向，亟待进一步的研究。

发明内容

本发明的主要目的，在于解决习知减排系统中，其燃烧室容易因为堵塞而燃烧不完全的问题。

为了达到上述目的，本发明提供一种用于控制气体污染物分解氧化的装置，该装置不仅可减少上述颗粒残留装置的问题，亦有容易清洁维护的优点。

具体而言，本发明一实施例提供一种用于控制气体污染物分解氧化的装置，该装置具有一反应部、一洗涤部、一水力旋流部、以及连通该反应部、该洗涤部、以及该水力旋流部的水箱，其特征在于该反应部包括：一第一腔体，该第一腔体包括一环状的第一内壁以及一与该第一内壁同心设置的第一外壁，该第一内壁围出一第一腔室，且该第一外壁上设有至少一废气进气通道，该废气进气通道穿透该第一外壁及该第一内壁而与该第一腔室连通，该废气进气通道包括一第一部件、一第二部件、以及一连接部件，其中，该连接部件的两端分别与该第一部件及该第二部件连接；该第一部件往横向方向延伸，未连接该连接部件的一端连通该第一腔室；该第二部件则往垂直方向延伸；一第一中介层，该第一中介层包括一第一内环壁、一与该第一内环壁同心设置的第一外环壁、至少一设置于该第一内环壁和该第一外环壁之间且和该第一腔室连通以供应一燃料的气体通道以及一设于该第一内环壁的引导火焰入口，并由该第一内环壁围出一连通该第一腔体的第一内部空间；一第二腔体，该第二腔体包括一环状的第二内壁以及一与该第二内壁同心设置的第二外壁，该第二内壁围出一与该第一中介层连通的第二腔室，该第二外壁包括至少一供一气体向内地流动至第二腔室的进气通道；一第二中介层，该第二中介层包括一第二内环壁以及一与该第二内环壁同心设置的第二外环壁，并由该第二内环壁围出一连通该第二腔体的第二内部空间；以及一第三腔体，该第三腔体包括一环状的第三内壁以及一与该第三内壁同心设置的第三外壁，该第三内壁围出一与该第二中介层连通的第三腔室，至少一液体通道设置在该第三外壁上并穿透该第三内壁以导入一液体至该第三腔室中。