[发明专利]多个等离激元共振特性的金/银纳米岛膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010117209.1 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN111321373A 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 张明娣;吕且妮;戴海涛;何剑涛;薛永祥;葛宝臻 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C23C14/18 分类号: C23C14/18;C23C14/26;C23C14/54;C23C14/58;B82Y40/00
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 程小艳
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 离激元 共振 特性 纳米 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.多个等离激元共振特性的金/银纳米岛膜的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤一、将ITO玻璃分别浸泡在酒精和去离子水中,并超声清洗,氮气吹干备用;

步骤二、将干净的ITO玻璃以及金/银靶材放入多源有机气相沉积系统的腔体中,抽真空至3×10-4Pa;

步骤三、以7A/4min速度给钨舟加电流,同时观察膜厚检测仪显示的蒸镀速度;

步骤四、达到所需蒸镀速度后,预蒸镀10nm厚度,待速度稳定后打开挡板开始蒸镀,得到所需膜厚,关闭挡板;

步骤五、将薄膜从蒸镀腔取出进行退火,退火过程分为三步:以5℃/min的速度升温到退火温度,在退火温度下保持30min,再从退火温度降温到室温;

步骤六、最终金/银纳米岛膜上可调的LSPR是通过控制步骤四中的蒸镀速度和薄膜厚度得到的。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,蒸镀速度为金薄膜厚度为4nm~8nm,银薄膜厚度为6nm~10nm。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,金薄膜退火温度是350℃,银薄膜退火温度是300℃。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,金/银靶材的纯度为99.999%。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法制备金/银纳米岛膜,其特征在于,金纳米岛膜具有三个LSPR,其中心波长分别位于316nm、407nm及可调的540nm~600nm;银纳米岛膜具有两个LSPR,其中心波长分别位于354nm及可调的440nm~580nm。

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