[发明专利]一种减少杂散光的滤光片及包含该滤光片的摄像模组有效

专利信息
申请号: 202010118306.2 申请日: 2020-02-26
公开(公告)号: CN110995980B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 李涛;葛文志;翁钦盛;矢岛大和;王懿伟 申请(专利权)人: 杭州美迪凯光电科技股份有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225
代理公司: 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 代理人: 杨秀芳
地址: 310018 浙江省杭州市经*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 减少 散光 滤光 包含 摄像 模组
【说明书】:

发明提供一种减少杂散光的滤光片及包含该滤光片的摄像模组,通过在滤光片的基板表面边缘的环状遮光层和基板侧面的遮光层,减少了杂散光的来源,解决因图像传感器绑定金线及反射光造成耀斑的问题,明显降低了杂散光在摄像过程中的不良影响。

【技术领域】

本发明属于摄像模组领域,尤其涉及一种减少杂散光的滤光片及包含该滤光片的摄像模组。

【背景技术】

随着各种智能设备的不断发展与普及,人们对摄像模组的要求也越来越高。在众多影响摄像效果的因素中,杂散光就是主要原因之一,尽可能地减少杂散光,是提高摄像模组性能必须解决的问题。滤光片是摄像模组中不可缺少的光学元件,用来选取所需辐射波段的光,并通过在滤光片上设置遮光层,可以进一步降低杂散光的产生。目前,这类滤光片通常采用在基板表面上网版丝印框形黑膜形成遮光层,然后再切割成小片,进行组装使用。而随着滤光片基板的切割工艺的提升,滤光片基板的侧面从磨砂面变成了透光面,这使杂散光增加了光路通道,仅能在基板表面上设置遮光层,已无法消除杂散光的不良影响。因此,现有的工艺已不能满足市场需求,需要进一步的改进。

【发明内容】

本发明提供一种减少杂散光的滤光片及包含该滤光片的摄像模组,通过在滤光片的基板上表面边缘的环状遮光层和基板侧面的侧遮光层,减少了杂散光的来源,明显降低了杂散光在摄像过程中的不良影响。

本发明的技术解决方案如下:

一种减少杂散光的滤光片,其特征在于,所述滤光片包括基板和设置于基板上表面边缘、限定形成透光区的环状遮光层以及设置于基板侧面并覆盖侧面全部的侧遮光层;所述环状遮光层和所述侧遮光层通过喷墨打印制备。

进一步的,上述环状遮光层和所述侧遮光层为黑色油墨层。

进一步的,上述侧遮光层的厚度为0.06-0.5mm。

进一步的,上述喷墨打印采用的墨水包含颜料、丙烯酸四氢糠基酯、丙烯酸酯单体、三高官能团丙烯酸酯、丙烯酸酯低聚物、光引发剂和表面活性剂。

进一步的,上述基板为蓝玻璃。

进一步的,上述喷墨打印包括如下步骤:按照目标的环状遮光层的形状设置图案S1,将图案S1的外轮廓放大0.1-0.35mm形成图案S2,根据S2对基板进行喷墨打印。

一种摄像模组,其特征在于,所述摄像模组包括镜头、用于固定所述镜头的支架、设置于所述镜头下方的滤光片、设置于所述滤光片下方的影像传感器、以及与所述影像传感器电连接的线路板,所述滤光片包括基板和设置于基板上表面边缘、限定形成透光区的环状遮光层以及设置于基板侧面并覆盖侧面全部的侧遮光层;所述环状遮光层和所述侧遮光层通过喷墨打印制备。

本发明的有益效果如下:

1)本发明通过在滤光片的基板侧面设置了覆盖全侧面的侧遮光层,完全切断了杂散光从侧面进入的光路,有效地克服了现有滤光片透明侧面引入的杂散光缺陷,解决因图像传感器绑定金线及反射光造成耀斑的问题,提高摄像效果;

2)本发明通过喷墨打印实现基板侧面遮光层的加工,突破性地解决了以往喷涂工艺无法在侧面实现均匀涂层的加工难题,也克服了以往印刷或喷涂工艺油墨消耗量大、会产生大量的废油墨对环境影响、每种规格的产品都要做对应的MASK频繁更换的技术难题;

3)本发明通过将环形遮光层图案外轮廓适量放大作为打印图案,可以一步实现精细化图案和侧面遮光层的加工,工艺简单,非常有效地提高了生产效率、降低了加工成本低,且能实现较高的精度。

【附图说明】

图1为实施例一的滤光片的正面示意图;

图2为实施例一的滤光片的侧面示意图;

图3为实施例一的滤光片的沿边长方向的侧面剖视图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州美迪凯光电科技股份有限公司,未经杭州美迪凯光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010118306.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top