[发明专利]存储器装置在审
申请号: | 202010119160.3 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN111952441A | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 庄明谚;林文钦 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01L43/12;H01L27/22 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 聂慧荃;闫华 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 存储器 装置 | ||
【权利要求书】:
1.一种存储器装置,包括:
一穿隧阻挡层,位于一半导体基板上的一参考层上;
一自由层,位于该穿隧阻挡层上;
一盖层,位于该自由层上;以及
一分流结构,包括一导电材料并自该自由层的外侧侧壁垂直地连续延伸至该盖层的外侧侧壁。
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