[发明专利]磁性存储装置在审

专利信息
申请号: 202010120714.1 申请日: 2020-02-26
公开(公告)号: CN112490262A 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 泽田和也;李永珉;北川英二;矶田大河;及川忠昭;吉野健一 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22;H01L43/02;H01L43/08;G11C11/16
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁性 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种磁性存储装置,其特征在于具备:

衬底;

第1积层体;及

第2积层体,相对于所述衬底位在与所述第1积层体相同侧,且比所述第1积层体自所述衬底更远离;

所述第1积层体及所述第2积层体分别包含:

参照层;

隧道势垒层,相对于所述参照层,设置在垂直于所述衬底之方向侧;

存储层,相对于所述隧道势垒层,设置于所述方向侧;及

第1非磁性层,相对于所述存储层,设置于所述方向侧;

所述第1积层体的所述第1非磁性层的热吸收率小于所述第2积层体的所述第1非磁性层的热吸收率。

2.根据权利要求1所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体的所述第1非磁性层包含与所述第2积层体的所述第1非磁性层不同的元素。

3.根据权利要求2所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体的所述第1非磁性层包含钌,

所述第2积层体的所述第1非磁性层包含钽。

4.根据权利要求1所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体的所述第1非磁性层具有与所述第2积层体的所述第1非磁性层不同的膜厚。

5.根据权利要求4所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体的所述第1非磁性层的膜厚薄于所述第2积层体的所述第1非磁性层的膜厚。

6.根据权利要求1所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体及所述第2积层体分别更包含:

第2非磁性层,设置在所述存储层与所述第1非磁性层之间,且包含氧化物;及

第3非磁性层,设置在所述第1非磁性层与所述第2非磁性层之间,且包含选自钌、铱、铑、钼、铁、及钴中的至少1种元素。

7.根据权利要求6所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体及所述第2积层体分别更含有包含金属的第4非磁性层,且

所述第4非磁性层位于比所述参照层、所述隧道势垒层、所述存储层、所述第1非磁性层、所述第2非磁性层及所述第3非磁性层自所述衬底更远离之位置。

8.根据权利要求1所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体及所述第2积层体分别更包含:

移位抵消层及间隔层;且

所述参照层相对于所述移位抵消层,设置于所述方向侧;及

所述间隔层设置于所述移位抵消层与所述参照层之间,包含选自钌、锇、铱、钒、及铬中的至少1种元素。

9.根据权利要求1所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第2积层体是相对于所述第1积层体,设置于所述方向侧。

10.根据权利要求1所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体是相对于所述第2积层体,设置于所述方向侧。

11.一种磁性存储装置,其特征在于具备:

衬底;

第1积层体;及

第2积层体,相对于所述衬底位在与所述第1积层体相同侧,且比所述第1积层体自所述衬底更远离;

所述第1积层体及所述第2积层体分别包含:

第1非磁性层;

参照层,其相对于所述第1非磁性层,设置在垂直于所述衬底之方向侧;

隧道势垒层,其相对于所述参照层,设置于所述方向侧;及

存储层,其相对于所述隧道势垒层,设置于所述方向侧;

所述第1积层体的所述第1非磁性层的热吸收率小于所述第2积层体的所述第1非磁性层的热吸收率。

12.根据权利要求11所述的磁性存储装置,其特征在于

所述第1积层体的所述第1非磁性层包含钌,

所述第2积层体的所述第1非磁性层包含钽。

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