[发明专利]钕铁硼磁体材料、原料组合物及制备方法和应用有效
申请号: | 202010121473.2 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN111223625B | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 骆溁;黄佳莹;廖宗博;蓝琴;林玉麟;师大伟;谢菊华;龙严清 | 申请(专利权)人: | 福建省长汀金龙稀土有限公司 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;H01F41/02 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦;邹玲 |
地址: | 366300 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钕铁硼 磁体 材料 原料 组合 制备 方法 应用 | ||
1.一种钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述钕铁硼磁体材料中,R:28~33wt%;所述R包括R1和R2,所述R1包括Nd和Dy,所述R2包括Tb;R2的含量为0.2wt%~1wt%;
B:0.9~1.1wt%;
Cu:0.15wt%以下、且不为0wt%;
M:0.35wt%以下、且不为0wt%;
M包括Ti、Ni、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Zr、Hf、Zn和Ag中的一种或多种;
Fe:60wt%~70.88wt%;
wt%为各元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比;
所述钕铁硼磁体材料中不含Co;
所述钕铁硼磁体材料包含Nd2Fel4B晶粒和其壳层、邻接所述Nd2Fel4B晶粒的二颗粒晶界和晶界三角区,其中R1中的重稀土元素主要分布在Nd2Fel4B晶粒,R2主要分布在所述壳层、所述二颗粒晶界和所述晶界三角区,所述晶界三角区的面积占比为1.5%~3.5%;所述钕铁硼磁体材料的晶界连续性为96%以上;晶界三角区中C和O的质量占比为0.4~0.5%,二颗粒晶界中C和O的质量占比为0.35%以上;
所述二颗粒晶界中还含有化学组成为RxFe100-x-y-zCuyMz的新物相;其中,x为32~36,y为0.1以下,但不为0,z为0.15以下,但不为0;
所述化学组成为RxFe100-x-y-zCuyMz的新物相在所述二颗粒晶界中的面积与所述二颗粒晶界总面积的比为0.8~3%。
2.如权利要求1所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述晶界三角区面积占比为1.59%~3.28%;
和/或,所述晶界连续性为97%以上;
和/或,所述二颗粒晶界中C和O的质量占比为0.37%~0.4%;
和/或,x为32.5~35.5,y为0.02~0.1,z为0.07~0.12;
和/或,所述钕铁硼磁体材料中R的用量为29-31wt%;
和/或,所述钕铁硼磁体材料中,所述R中Nd的含量为28~32.5wt%,百分比为占所述钕铁硼磁体材料总质量的质量百分比;
和/或,所述钕铁硼磁体材料中,所述R1中Dy的含量在0.2wt%以下;
和/或,所述R1还包括Pr、Ho、Tb、Gd和Y中的一种或多种;
和/或,当所述R1包含Pr时,Pr的添加形式为以PrNd的形式,或者,以纯净的Pr和Nd的混合物的形式,或者以PrNd、纯净的Pr和Nd的混合物联合添加;当以PrNd的形式添加时,Pr:Nd=25:75或20:80;
和/或,所述R2的含量为0.2wt%~0.8wt%;
和/或,所述R2中,Tb的含量为0.2wt%~0.8wt%;
和/或,所述R2还包括Pr、Dy、Ho和Gd中的一种或多种;
和/或,所述M的含量为0.1wt%~0.15wt%,或者0.25wt%~0.4wt%;
和/或,所述M的种类为Ti、Zr、Nb、Ni、V、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Hf和Ag中的一种或多种;
和/或,所述M的种类还包括Bi、Sn、Zn、Ga、In、Au和Pb中的一种或多种;
和/或,所述钕铁硼磁体材料中还含有Al;
当所述M包括Ga,且Ga为0.01wt%以下时,Al+Ga+Cu为0.15wt%以下、且不为0wt%;和/或,所述钕铁硼磁体材料中Cu的含量为0.08wt%以下、但不为0wt%,或者0.1wt%~0.15wt%;
和/或,所述钕铁硼磁体材料中B的含量为0.9wt%~1.1wt%;
和/或,所述钕铁硼磁体材料中所述Fe的含量为65.65wt%~70.88wt%。
3.如权利要求2所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述晶界三角区面积占比为1.59%~2%。
4.如权利要求2所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述晶界连续性为98%以上。
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