[发明专利]钕铁硼磁体材料、原料组合物、制备方法、应用有效
申请号: | 202010121477.0 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN111223626B | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 骆溁;师大伟;黄佳莹;廖宗博;蓝琴;林玉麟;谢菊华;龙严清 | 申请(专利权)人: | 厦门钨业股份有限公司;福建省长汀金龙稀土有限公司 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;H01F41/02 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦;邹玲 |
地址: | 361000*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钕铁硼 磁体 材料 原料 组合 制备 方法 应用 | ||
1.一种钕铁硼磁体材料,其特征在于,R:28~33wt%;所述R包括R1和R2,所述R2的含量为0.2~1wt%;所述R1包括Nd、且不含RH;
所述R2包括Tb;
B:0.9~1.1wt%;
Cu:0.15wt%以下、且不为0 wt%;
M:0.4wt%以下、且不为0 wt%;
所述M为Bi、Sn、Zn、Ga、In、Au和Pb中的一种或多种;
Fe:60~70.65wt%;
wt%为各元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比;
所述钕铁硼磁体材料中不含有Co;
所述钕铁硼磁体材料包含Nd2Fel4B晶粒和其壳层、邻接所述Nd2Fel4B晶粒的二颗粒晶界和晶界三角区,R1中的Nd分布在所述Nd2Fel4B晶粒、所述二颗粒晶界和所述晶界三角区;R2主要分布在所述壳层、所述二颗粒晶界和所述晶界三角区;所述晶界三角区的面积占比为2.5~3.5%;所述钕铁硼磁体材料的晶界连续性为97.5%以上;
所述二颗粒晶界中C和O的质量占比为0.31~0.4%;所述晶界三角区中C和O的质量占比为0.41~0.50%。
2.如权利要求1所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述二颗粒晶界中还含有化学组成为R85.5~88Fe1.5~2.3Cu0.9~1.3M8.8~11物相,其中R包括Nd和Tb,M为Bi、Sn、Zn、Ga、In、Au和Pb中的一种或多种;
和/或,所述晶界三角区面积占比为2.5~3.05%;
和/或,所述晶界连续性为97.5%以上;
和/或,所述R的含量范围为29.5~31.5wt%或者29.8~32.8 wt%,wt%为元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比;
和/或,所述R1还包括Pr、La和Ce中的一种或多种;
和/或,所述R2的含量范围为0.2~0.8 wt%或者0.5~1 wt%,wt%为元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比;
和/或,所述Tb的含量范围为0.5~1wt%,wt%为元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比;
和/或,所述R2还包括Pr、Dy、Ho和Gd中的一种或多种;
和/或,所述B的含量范围为0.9~0.99wt%或0.98~1.05 wt%,wt%为元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比;
和/或,所述Cu的含量范围为0.07~0.15 wt%或者0.08wt%以下、且不为0 wt%,wt%为元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比
和/或,所述Cu的添加方式为熔炼和/或晶界扩散时添加;
和/或,所述M的含量为0.05~0.25wt%或者0.1~0.36 wt%,wt%为元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比;
和/或,所述M为Ga、Zn和Bi中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述晶界三角区面积占比为2.85%、2.76%、2.59%、3.01%、2.98%、2.68%、2.77%或2.64%。
4.如权利要求1所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述晶界连续性为97.88%、98.12%、98.15%、97.93%、97.86%、97.91%、98.01%或98.06%。
5.如权利要求1所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述R的含量范围为31.2 wt%、32.2 wt%或30.9 wt%,wt%为元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比。
6.如权利要求1所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述R1还包括Pr。
7.如权利要求1所述的钕铁硼磁体材料,其特征在于,所述R2的含量范围为0.6 wt%、0.9 wt%、0.94 wt%或0.7wt%,wt%为元素占所述钕铁硼磁体材料的质量百分比。
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