[发明专利]超精细气泡生成方法、超精细气泡生成装置和含有超精细气泡的液体在审

专利信息
申请号: 202010122219.4 申请日: 2020-02-27
公开(公告)号: CN111617651A 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 久保田雅彦;山田显季;今仲良行;柳内由美;有水博;石永博之;尾崎照夫 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: B01F3/04 分类号: B01F3/04;B01F15/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李东晖
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 精细 气泡 生成 方法 装置 含有 液体
【权利要求书】:

1.一种超精细气泡生成方法,所述超精细气泡生成方法包括:

生成步骤,其通过使设置在液体中的加热元件生成热以在所述液体和所述加热元件之间的界面上生成膜沸腾来生成超精细气泡;以及

后处理步骤,其对包含在所述生成步骤中生成的超精细气泡的含有超精细气泡的液体执行预定的后处理。

2.根据权利要求1所述的超精细气泡生成方法,其中

所述后处理步骤包括用于从所述含有超精细气泡的液体移除杂质的移除处理。

3.根据权利要求2所述的超精细气泡生成方法,其中

所述移除处理包括用于通过使用阳离子交换树脂移除无机离子的第一处理。

4.根据权利要求3所述的超精细气泡生成方法,其中

通过所述第一处理移除的所述无机离子包含形成所述加热元件的金属。

5.根据权利要求3所述的超精细气泡生成方法,其中

通过所述第一处理移除的所述无机离子包含选自Si、AL、W、Pt、Pd、Ta、Fe、Cr、Ni、Ir和Ru中的至少一种。

6.根据权利要求2所述的超精细气泡生成方法,其中

所述移除处理包括用于通过使用滤过性过滤器移除有机物质的第二处理。

7.根据权利要求6的超精细气泡生成方法,其中

通过所述第二处理移除的所述有机物质包括选自包含硅的有机化合物、硅氧烷、环氧树脂和细菌中的至少一种。

8.根据权利要求2的超精细气泡生成方法,其中

所述移除处理包括用于通过利用不溶性固体物质的沉降特性来移除所述不溶性固体物质的第三处理。

9.根据权利要求1所述的超精细气泡生成方法,其中

所述后处理步骤包括用于增加所述含有超精细气泡的液体中所包含的超精细气泡的浓度的增加处理。

10.根据权利要求9的超精细气泡生成方法,其中

在所述增加处理中,通过在所述含有超精细气泡的液体中生成超声波来增加所包含的超精细气泡的浓度。

11.根据权利要求9的超精细气泡生成方法,其中

在所述增加处理中,通过将聚焦超声波施加至所述含有超精细气泡的液体来增加所包含的超精细气泡的浓度。

12.根据权利要求1所述的超精细气泡生成方法,其还包括:

将氢、氦、氧、氮、甲烷、氟、氖、二氧化碳、臭氧、氩、氯、乙烷、丙烷、空气和包含它们的混合气体中的任何一种溶解在将供应到所述生成步骤中的液体中的溶解步骤,其中

在所述生成步骤中生成的超精细气泡在其内部包含在所述溶解步骤中溶解的气体。

13.根据权利要求1所述的超精细气泡生成方法,其中

在执行所述后处理步骤之后再次执行所述生成步骤。

14.根据权利要求1所述的超精细气泡生成方法,其还包括:

收集在所述后处理步骤中处理过的所述含有超精细气泡的液体的步骤。

15.一种超精细气泡生成装置,所述超精细气泡生成装置包括:

生成单元,其通过使设置在液体中的加热元件生成热以在所述液体和所述加热元件之间的界面上生成膜沸腾来生成超精细气泡;以及

后处理单元,其对包含由所述生成单元生成的超精细气泡的含有超精细气泡的液体执行预定的后处理。

16.根据权利要求15所述的超精细气泡生成装置,其中

所述后处理单元包括移除单元,所述移除单元从所述含有超精细气泡的液体移除杂质。

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