[发明专利]一种离子束辐照制备铌酸锂纳米点畴结构的方法和装置有效
申请号: | 202010128429.4 | 申请日: | 2020-02-28 |
公开(公告)号: | CN111257077B | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
发明(设计)人: | 陈智利;刘卫国;惠迎雪;周顺;张进;杨利红;毕倩;唐黎 | 申请(专利权)人: | 西安工业大学 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N1/44 |
代理公司: | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人: | 黄秦芳 |
地址: | 710032 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离子束 辐照 制备 铌酸锂 纳米 结构 方法 装置 | ||
1.一种离子束辐照制备铌酸锂纳米点畴结构的方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤一、将待加工的铌酸锂样品固定在离子束刻蚀设备的样品台上,调整使离子束的入射角达到工作角度;调整使离子源的中心与工件中心重合;
步骤二、将离子束刻蚀设备抽至高真空,真空度低于2×10-3Pa;通入高纯度99.999%惰性气体氩气或氙气,利用气体流量计控制气体流量,使工作真空保持在2×10-2Pa到8×10-2Pa;
步骤三、设置样品台旋转速度、开启离子源,对铌酸锂样品进行离子束辐照,所述样品台的转速为6~80转/分钟;
步骤四、将辐照后的铌酸锂晶体置于高温炉中进行热处理,其中热处理温度80~350℃,时间0.2~3小时;
所述步骤三中,离子束为Xe,离子束能量E为450-750eV,离子束流密度J为130-450μA/cm2,离子束入射角度θ为10-30°或55-75°,离子束作用t为30-300min,所述离子束入射角θ为离子束和样品表面法线的夹角;
上述离子束辐照制备铌酸锂纳米点畴结构的方法采用的装置,包括基片运动系统(1)、离子源系统(2)、真空系统(3)和控制系统(4),
所述的基片运动系统(1)包括基座(101)、轴套(102)、基台(103)和X、Y双向运动平台(105),所述基台(103)的截面为T型,基台(103)的小端外侧套设有轴套(102),轴套(102)的端部固定有基座(101);基台(103)的大端的端面与X、Y双向运动平台(105)固定连接,所述基台(103)的大端内设置有冷却通道(104);
所述的冷却通道(104)连接有中心管路,中心管路的外端上连接有旋转接头(106),旋转接头(106)上连接波纹管(107),循环水经波纹管(107)后从基台(103)的中心管路进入冷却通道(104),在冷却通道(104)中循环后进入旋转接头(106)上的出水口,实现基片台恒温在10-30℃。
2.一种离子束辐照制备铌酸锂纳米点畴结构的方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤一、将待加工的铌酸锂样品固定在离子束刻蚀设备的样品台上,调整使离子束的入射角达到工作角度;调整使离子源的中心与工件中心重合;
步骤二、将离子束刻蚀设备抽至高真空,真空度低于2×10-3Pa;通入高纯度99.999%惰性气体氩气或氙气,利用气体流量计控制气体流量,使工作真空保持在2×10-2Pa到8×10-2Pa;
步骤三、设置样品台旋转速度、开启离子源,对铌酸锂样品进行离子束辐照,所述样品台的转速为6~80转/分钟;
步骤四、将辐照后的铌酸锂晶体置于高温炉中进行热处理,其中热处理温度80~350℃,时间0.2~3小时;
所述步骤三中,离子束为Ar,离子束能量E为900-1350eV,离子束流密度J为240-620μA/cm2,离子束入射角度θ为10-30°和或55-75°,离子束作用t为30-300min,所述离子束入射角θ为离子束和样品表面法线的夹角;
上述离子束辐照制备铌酸锂纳米点畴结构的方法采用的装置,包括基片运动系统(1)、离子源系统(2)、真空系统(3)和控制系统(4),
所述的基片运动系统(1)包括基座(101)、轴套(102)、基台(103)和X、Y双向运动平台(105),所述基台(103)的截面为T型,基台(103)的小端外侧套设有轴套(102),轴套(102)的端部固定有基座(101);基台(103)的大端的端面与X、Y双向运动平台(105)固定连接,所述基台(103)的大端内设置有冷却通道(104);
所述的冷却通道(104)连接有中心管路,中心管路的外端上连接有旋转接头(106),旋转接头(106)上连接波纹管(107),循环水经波纹管(107)后从基台(103)的中心管路进入冷却通道(104),在冷却通道(104)中循环后进入旋转接头(106)上的出水口,实现基片台恒温在10-30℃。
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