[发明专利]含酸抑制剂的改性成膜树脂及其制备方法与光刻胶组合物

权利要求书

1.一种含酸抑制剂的改性成膜树脂，其特征在于，其由包括成膜树脂单体和酸抑制剂单体聚合而成，其结构通式(I)如下所示：

其中，所述通式(I)中的n为5-200。

2.根据权利要求1所述的改性成膜树脂，其特征在于：所述成膜树脂中成膜单体和酸抑制剂单体的质量比为(95-99.99)：(0.01-5)。

3.根据权利要求1或2所述的改性成膜树脂，其特征在于：所述酸抑制剂单体包括含碳链酸抑制剂单体、含醚键酸抑制剂单体、含酯键酸抑制剂单体、含羟基酸抑制剂单体中的至少一种；

所述成膜树脂单体包括极性成膜树脂单体，非极性成膜树脂单体，酸保护单体的至少一种。

4.根据权利要求3所述的含酸抑制剂的改性成膜树脂，其特征在于：

所述含碳链酸抑制剂单体包括以下至少一种基团的单体：

所述含醚键酸抑制剂单体包括以下结构中的至少一种基团的单体：

所述含酯键酸抑制剂单体包括以下结构中的至少一种基团的单体：

所述含羟基功能单体包括以下结构中的至少一种基团的单体：

5.根据权利要求3所述的改性成膜树脂，其特征在于：所述极性成膜树脂单体的结构式如下：

其中：R₁＝C_aH_2a，a为1-5的整数；R₂＝C_bH_2b，b为1-5的整数；R₃＝H或CH₃，R₆＝C_cH_2c，c为1-5的整数；

所述非极性成膜树脂单体的结构式如下：

其中，R₃＝H或CH₃；R₄＝C_dH_2d+1，d为1-10的整数；R₅＝H或CH₃；R₈＝C_eH_2e+1，e为1-10的整数；R7＝亚甲基或无基团；

所述酸保护单体的结构式如下：

其中，R₃＝H或CH₃；R₁₁＝C_fH_2f+1，f为1-10的整数；R₁₂＝C_gH_2g+1，g为1-10的整数。

6.权利要求1-5任一项所述含酸抑制剂的改性成膜树脂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

在保护气氛下，将成膜树脂单体和酸抑制剂单体于反应溶剂中溶解后，加入引发剂溶液进行聚合反应，得到反应物溶液；

向所述反应物溶液中加入沉淀溶剂使得所述反应物溶液的反应物发生沉淀，进行固液分离处理留沉淀，并对所述沉淀进行纯化处理。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：

在所述聚合反应的步骤中，是将10％wt～40％wt极性成膜树脂单体和20％wt～60％wt酸保护单体和0％wt～25％wt非极性成膜树脂单体和0.001％wt～5％wt酸抑制剂单体加入充满氮气的反应釜内，往所述反应釜内加入反应溶剂，搅拌处理后将反应釜升温至回流，接着向所述反应釜内滴加引发剂溶液，并进行回流反应，回流反应结束后，将所述反应釜温度冷却至室温；

所述成膜树脂单体和酸抑制剂单体的总量与所述反应溶剂的质量比为1：(1-100)；

所述引发剂的质量为单体总质量的0.3％～15％。