[发明专利]微透镜阵列结构的制备方法和保护膜

权利要求书

1.一种微透镜阵列结构的制备方法，其特征在于：该方法包括制备具有固化的SU8凸透镜阵列的硅片模板，还包括微透镜阵列结构的制备，其中，

所述硅片模板的制备包括如下的步骤：

a.使用1H,1H,2H,2H-全氟辛基三乙氧基硅烷修饰硅片使硅片表面具有不润湿性；

b.通过光刻技术在不润湿的硅片表面制备呈阵列排布的圆形图案，形成图案化的表面；

c.采用玻璃刷片，并用机械手控制玻璃刷片的位置和带动玻璃刷片移动，在玻璃刷片与硅片之间添加SU8光刻胶溶液，使得溶液布满整个缝隙，利用机械手拖动玻璃刷片带动SU8光刻胶溶液在图案化的硅片表面上滑动，形成SU8光刻胶液滴阵列；

d.通过紫外光曝光2s，并在95℃条件下加热90s，即得到具有固化的SU8凸透镜阵列的硅片模板；

所述微透镜阵列结构的制备包括如下步骤：

e.将PDMS的预聚物和固化剂按10：1质量比混合并搅拌均匀，去除气泡后倾倒在具有SU8凸透镜阵列的所述硅片模板上，室温下放置使PDMS充分展开铺平；

f.于60℃条件下加热固化，揭开倾倒的PDMS得到柔性PDMS微透镜阵列，且所述微透镜阵列为凹透镜阵列；

g.在容器内加入1H,1H,2H,2H-全氟辛基三乙氧基硅烷，将制备的柔性PDMS凹透镜阵列放入容器内，并置于烘箱中加热2h，对制备的柔性PDMS凹透镜阵列进行疏水处理；

h.将PDMS的预聚物和固化剂按10：1质量比混合并搅拌均匀，去除气泡后倾倒在柔性PDMS凹透镜阵列的凹陷侧，室温下放置使PDMS充分展开铺平；

i.于60℃条件下加热固化，揭开倾倒的PDMS得到柔性PDMS凸透镜阵列。

2.根据权利要求1所述的微透镜阵列结构的制备方法，其特征在于：所制备的阵列排布的图案中，各位置处图案的尺寸相同，或者沿其一排列方向各图案具有尺寸梯度，或者至少有一位置处的图案的尺寸和其它位置处不同。

3.根据权利要求1所述的微透镜阵列结构的制备方法，其特征在于：步骤e中室温下放置12h，步骤f中为60℃条件下加热固化1h。

4.根据权利要求1所述的微透镜阵列结构的制备方法，其特征在于：步骤h中为室温下放置12h，步骤i中为60℃条件下加热固化1h。

5.一种含微透镜阵列的保护膜，其特征在于：所述保护膜用于对照明设备的出光面及电子产品的显示屏进行保护，所述保护膜中具有薄膜状的基材层，所述基材层上制备有微透镜阵列，且所述基材层上的所述微透镜阵列的制备方法包括先采用权利要求1中所述硅片模板的制备步骤，制备具有固化的SU8凸透镜阵列的硅片模板，还包括将所述基材层加热到玻璃化温度，再覆盖于具有固化的SU8凸透镜阵列的所述硅片模板上，静置处理后在所述基材层的一面形成所述微透镜阵列，且所述微透镜阵列为凹透镜阵列。

6.根据权利要求5所述的含微透镜阵列的保护膜，其特征在于：所述基材层采用PET材质、PVC材质、PE材质和PP材质中的一种，且所述基材层覆盖于所述硅片模板上后静置处理50-70mim，以在所述基材层的一面形成凹透镜阵列。

7.根据权利要求6所述的含微透镜阵列的保护膜，其特征在于：于所述基材层具有所述凹透镜阵列的一面贴合有PET离型膜，于所述基材层的另一面涂布有胶水，并贴合有PET离型膜。

8.根据权利要求7所述的含微透镜阵列的保护膜，其特征在于：所述胶水为硅胶、亚克力胶和PU胶中的一种。