[发明专利]锁盖、镜头、摄像模组及电子装置在审
申请号: | 202010130258.9 | 申请日: | 2020-02-28 |
公开(公告)号: | CN111240126A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 乐宇明;吴上阿蒙;任媛 | 申请(专利权)人: | 天津欧菲光电有限公司 |
主分类号: | G03B11/04 | 分类号: | G03B11/04 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 朱志达 |
地址: | 300385 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镜头 摄像 模组 电子 装置 | ||
本发明涉及一种锁盖、镜头、摄像模组及电子装置。锁盖,用于安装在镜筒的物侧,锁盖开设有通光口,来自物侧的光线通过通光口进入镜筒,锁盖包括靠近物侧且邻近通光口的消光面,消光面环绕通光口,消光面开设有至少一条消光槽,消光槽用于消减进入消光槽内的光线的强度。当在邻近通光口的区域开设消光槽时,入射至消光槽的大部分光线将在其中发生多次反射,从而减少最终从消光槽出射的光线的强度,即能够实现有效减少杂散光的效果。另一方面,由于消光槽开设于锁盖上,因此当锁盖与镜筒装配后,可在很大程度上在杂散光进入光学系统之前就对其进行消减,从而可有效解决因杂散光进入光学系统而导致成像品质下降的问题。
技术领域
本发明涉及摄影成像领域,特别是涉及一种锁盖、镜头、摄像模组及电子装置。
背景技术
对于常见的锁盖而言,锁盖套设在镜筒的物侧以对镜筒中的透镜实现密封。锁盖常采用铜、铝等材料,并通过染黑处理或氧化处理等工艺使表面染黑以用于消光,此工艺用于防止由于材料表面反射率较高引起的反射形成杂散光的现象。但此类传统的消光工艺虽能降低表面的反射率,但依然难以有效减少杂散光进入光学系统。
发明内容
基于此,有必要针对如何有效消除杂散光的问题,提供一种锁盖、镜头、摄像模组及电子装置。
一种锁盖,用于安装在镜筒的物侧,所述锁盖开设有通光口,来自物侧的光线通过所述通光口进入所述镜筒,所述锁盖包括靠近物侧且邻近所述通光口的消光面,所述消光面环绕所述通光口,所述消光面开设有至少一条消光槽,所述消光槽用于消减进入所述消光槽内的光线的强度。
在上述锁盖中,当在上述邻近所述通光口的区域(即通光口的周边区域)开设所述消光槽时,入射至所述消光槽的大部分光线将在其中发生多次反射,每次反射都能耗散入射光线的强度,从而减少最终从所述消光槽出射的光线的强度,即能够实现有效减少杂散光的效果。另一方面,由于所述消光槽开设于所述锁盖上,因此当所述锁盖与镜筒装配后,可在很大程度上在杂散光进入光学系统之前就对其进行消减,从而可有效解决因杂散光进入光学系统而导致成像品质下降的问题。
在其中一个实施例中,所述消光槽环绕所述通光口开设。通过使所述消光槽环绕所述通光口开设,可对所述通光口周边的更多位置上所形成的杂散光起到消减作用,同时使消光效果更为对称,提升成像品质。
在其中一个实施例中,所述消光槽为齿形槽、螺纹槽、矩形槽或弧形槽中的任意一种。当所述消光槽具有上述结构时,所述消光槽能够对入射至其中的光线实现有效反射,增加光线的反射次数以更大程度地消减最终由所述消光槽出射的杂散光。
在其中一个实施例中,所述消光面开设有至少两条所述消光槽,至少两条所述消光槽由靠近所述通光口向远离所述通光口的方向依次排布。满足上述结构设计时,在由靠近所述通光口向远离所述通光口的方向上依次设置有至少两条所述消光槽,从而能够增加在该方向上的所述消光槽的分布,以此增大该方向上的消光面积,实现更佳的消光效果。
在其中一个实施例中,所述消光槽均为齿形槽,相邻的所述消光槽的槽底间距为0.05mm~0.1mm,所述消光槽的槽口深度为0.05mm~0.4mm,所述消光槽的槽口角度为18°~80°。拥有上述结构设计的所述消光槽能够有效地增加入射光线的反射次数,有利于入射光线的衰减以减弱出射光线的强度,同时还有利于加工设计。
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