[发明专利]电极、电极的制作方法及其装置

权利要求书

1.一种电极，其特征在于，包含：导电纳米结构及一外加于所述导电纳米结构的膜层，所述导电纳米结构与所述膜层的界面实质具有披覆结构。

2.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，该披覆结构包括镀层，所述镀层完全包覆所述导电纳米结构与所述膜层的界面。

3.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，所述膜层具有一未完全固化状态，该披覆结构系沿着所述导电纳米结构的表面所形成并位于所述导电纳米结构与所述膜层的界面。

4.根据权利要求3所述的电极，其特征在于，在所述未完全固化状态下，所述膜层具有一第一层区域与一第二层区域，该第二层区域的固化状态高于该第一层区域的固化状态；在该第一层区域中，该披覆结构系沿着所述导电纳米结构的表面所形成并位于所述导电纳米结构与所述膜层的界面。

5.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，相邻的所述导电纳米结构之间填充有该膜层，该膜层中没有单独存在的所述披覆结构。

6.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，所述导电纳米结构包含金属纳米线，该披覆结构完全包覆所述金属纳米线与所述膜层的界面，并在所述界面形成均匀的披覆层。

7.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，该披覆结构为导电材料所制成的层状结构、岛状突起结构、点状突起结构或其组合。

8.根据权利要求7所述的电极，其中该导电材料为银、金、铜、镍、铂、铱、铑、钯、锇或包含前述材料的合金。

9.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，该披覆结构为单一金属材料或合金材料所制成的单层结构；或者该披覆结构为两种以上的金属材料或合金材料所制成的两层或多层结构。

10.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，该披覆结构为化学镀铜层、电镀铜、化学镀铜镍层、化学镀银层或其组合。

11.一种电极的制作方法，其特征在于，包括：

将一膜层外加于一含有导电纳米结构的导电层上，并使该膜层达到预固化或未完全固化状态；以及

进行一改质步骤，使一披覆结构成型于至少一部分的所述导电纳米结构的表面，使所述导电纳米结构与所述膜层的界面实质具有该披覆结构。

12.根据权利要求11所述的电极的制作方法，其特征在于，该改质步骤包括:将该膜层与该导电纳米结构浸入化学镀溶液，所述化学镀溶液渗入该膜层中并与所述导电纳米结构接触，使金属析出于所述导电纳米结构的表面。

13.根据权利要求12所述的电极的制作方法，其特征在于，该披覆结构系沿着所述导电纳米结构的表面所形成并位于所述导电纳米结构与所述膜层的界面。

14.根据权利要求11所述的电极的制作方法，其特征在于，将一膜层外加于一含有导电纳米结构的导电层上包括:

涂布一聚合物于该导电层上；

控制固化条件使该聚合物达到预固化或未完全固化状态。

15.根据权利要求11所述的电极的制作方法，其特征在于，将一膜层外加于一含有导电纳米结构的导电层上包括:

涂布一聚合物于该导电层上；

控制固化条件使该聚合物达到预固化或未完全固化状态，所述预固化或未完全固化的膜层具有一第一层区域与一第二层区域，该第二层区域的固化状态高于该第一层区域的固化状态。

16.根据权利要求15所述的电极的制作方法，其特征在于，在该第一层区域中，该披覆结构系沿着所述导电纳米结构的表面所形成并位于所述导电纳米结构与所述膜层的界面。