[发明专利]一种液体电极介质阻挡放电装置

说明书

本发明公开了一种液体电极形式的介质阻挡放电装置，包括依次相连通的气室、介质桶、储水槽，所述气室的内部镶嵌有水柱喷头，所述水柱喷头的喷口位于介质桶的内部，所述水柱喷头与进水槽相连通，气室与气泵相连接，介质桶与高压电源相连接。介质桶内部的中间设置有空心夹层，在介质桶空心夹层处注满导电液体作为液体高压电极，所述水幕喷头与地线连接，作为地电极。本发明采用液体电极放电避免了传统电极产生的尖端放电及丝状放电等放电不均匀现象。在进行等离子体活化水制备过程中，产生的等离子体活化水可以直接作用于待处理物表面，避免了等离子体活化水在容器内滞留导致活性衰退。

技术领域

本发明涉及污水处理及等离子体活化水产生领域，特别涉及一种液体电极式的介质阻挡放电装置及工作方法。

背景技术

我国是一个人均水资源匮乏的国家，被列为世界上十三个贫水国之一。随着我国工业化和城镇化的推进，日趋严重的水污染不仅降低了水体的使用功能，进一步加剧了水资源短缺的矛盾。现有处理方法，例如凝结，絮凝，沉淀，微滤和超滤，在去除微量持久性有机化合物方面无效。化学试剂氧化水相中的微量有毒有机物时容易引发水体二次污染。因此研制一种新型等离子体产生装置对污水净化是非常必要的。

使用传统地消毒液对物品进行消毒时，消毒液释放的刺激性气味及残留容易影响到使用者的健康，而等离子体活化后的水溶液是具有一定消毒能力，同时无残留的活化溶液。因此，使用设计一种等离子体发生器可以对水体进行活化从而制备成等离子体活化水是十分必要的。

发明内容

为解决现有技术的问题，本发明目的在于提供一种液体电极形式的介质阻挡放电装置，是一种结构精巧、使用方便、效果明显、成本低廉、卫生安全的等离子体废水处理及等离子体活化水制备装置。

为实现上述目的，本发明提供了一种液体电极形式的介质阻挡放电装置，包括依次相连通的气室、介质桶、储水槽，所述气室的内部镶嵌有水柱喷头，所述水柱喷头位于气室和介质桶的内部，所述水柱喷头的喷口位于介质桶的内部，所述水柱喷头与进水槽相连通，所述气室与气泵相连接，所述介质桶与高压电源相连接。

进一步的，所述水柱喷头与气室之间设置有密封圈，用于对水柱喷头与气室的连接处进行密封。

进一步的，所述水柱喷头的一端位于气室和介质桶的内部，另一端与进水槽相连通。

进一步的，所述水柱喷头与地线连接，作为地电极。

进一步的，所述水柱喷头镶嵌于气室的内部，所述水柱喷头的喷口位于介质桶的内部。所述水柱喷头的喷口与介质桶的内壁之间预留距离，方便气体流入。其预留距离根据工作方式进行更改。

进一步，所述水柱喷头的材质为导电良好的金属材料，如不锈钢、铝合金等，可根据需求对其喷出水柱或水幕形状进行改变。

进一步，所述水柱喷头为多水柱式喷头、喷雾式喷头、水幕式喷头或单水柱式喷头。

进一步，所述水柱喷头方向可以自上而下，也可以自下而上，根据实际需求对水柱喷头方向进行调整。

进一步的，所述水柱喷头与进水槽之间设置有水泵。

进一步的，所述水柱喷头与进水槽通过水管相连通。

进一步的，所述气室设置有进气孔，进气孔开设位置位于均流板上部，所述气室通过进气孔与气泵相连。气泵将气体注入气室内，经过气室内均流板后流入到介质桶内。

进一步的，所述均流板为环形结构，其上开有通气孔。

进一步的，所述气室内部均流板位于距气室底部10mm处，均流板上开有半径为2mm，孔心距为3mm的圆孔阵列，圆孔即为通气孔。

进一步的，所述气室通过气管与气泵相连，所述气室通过进气孔经气管与气泵相连。