[发明专利]一种提高钙钛矿薄膜稳定性的方法有效
申请号: | 202010136324.3 | 申请日: | 2020-03-02 |
公开(公告)号: | CN111435709B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 杭州纤纳光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/48 | 分类号: | H01L51/48;H01L51/42 |
代理公司: | 杭州奥创知识产权代理有限公司 33272 | 代理人: | 杨文华 |
地址: | 311121 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 钙钛矿 薄膜 稳定性 方法 | ||
1.一种提高钙钛矿薄膜稳定性的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤一、将表面含有钙钛矿薄膜的基片置于反应腔体,用惰性气体反复清洗反应腔体;
步骤二、向反应腔体内通入硫化氢气体使其与含铅离子的钙钛矿薄膜分子发生反应后在钙钛矿薄膜表面生成硫化铅层;
步骤三、待反应结束后,用惰性气体反复清洗反应腔体,充气至常压,待反应腔体冷却后取出反应后的基片。
2.如权利要求1所述的提高钙钛矿薄膜稳定性的方法,其特征在于,所述惰性气体包括氩气或者氮气。
3.如权利要求1所述的提高钙钛矿薄膜稳定性的方法,其特征在于,在步骤一和步骤三中,用惰性气体反复清洗反应腔体分别是指先对反应腔体抽真空,再充入惰性气体,重复多次执行抽气和充气操作,使反应腔体净化。
4.如权利要求1所述的提高钙钛矿薄膜稳定性的方法,其特征在于,在步骤二中,通入硫化氢气体的体积比为0.1~10%,反应腔体的温度不超过300℃。
5.如权利要求1所述的提高钙钛矿薄膜稳定性的方法,其特征在于,在所述钙钛矿薄膜中含有分子结构式为ABX3的钙钛矿化合物,其中,A为甲胺基或甲脒基一价有机阳离子,或者为K+、Rb+、Cs+一价无机阳离子中的至少一种,B为铅离子二价主阳离子,X为Cl-、Br-、I-中任意一种一价卤素阴离子,或者为硫氰酸根或醋酸根离子一价阴离子。
6.如权利要求5所述的提高钙钛矿薄膜稳定性的方法,其特征在于,其中,B还包括有二价掺杂阳离子,二价掺杂阳离子包括硼、硅、锗、砷、锑、铍、镁、钙、锶、钡、铝、铟、镓、铊、铋、镧、铈、镨、钕、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、钇、锆、铌、钼、钌、铑、钯、银、镉、铪、钽、钨、铼、锇、铱、铂、金离子中的至少一种,其中,二价掺杂阳离子与二价主阳离子的摩尔百分数之比不超过5%。
7.如权利要求1所述的提高钙钛矿薄膜稳定性的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤11、将具有ITO/SnO2/CH3NH3PbI3结构的基片置于反应腔体,对反应腔体抽真空至1×10-4Pa,再充入高纯氮气至腔体内压强10Pa,重复三次执行抽气和充气操作,使反应腔体净化;
步骤12、将体积分数为0.6%的硫化氢和氮气混合气体通入反应腔体,保持腔体内的压强为50Pa,温度为90℃,使硫化氢与钙钛矿薄膜分子发生反应后在钙钛矿薄膜表面生成硫化物层,反应时间2min;
步骤13、待反应结束后,对反应腔体抽真空至1×10-2Pa,再充入高纯氮气至腔体内压强1×104Pa,依次重复执行抽气和充气操作三次,最后再充气至反应腔体恢复常压,待反应腔体冷却后打开反应腔体,取出反应结束的基片。
8.如权利要求1所述的提高钙钛矿薄膜稳定性的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤21、将具有ITO/PTAA/Cs0.05FA0.80MA0.15Pb(I0.85br0.15)3结构的基片置于反应腔体,对反应腔体抽真空至10Pa,再充入高纯氮气至腔体内压强105Pa,重复执行抽气和充气操作四次,使反应腔体净化;
步骤22、将温度为150℃、体积分数为5%的硫化氢和氮气混合气体以10毫升/分钟的速率通入反应腔体,使硫化氢与钙钛矿薄膜分子发生反应后在钙钛矿薄膜表面生成硫化物层,反应时间10s;
步骤23、待反应结束后,对反应腔体抽真空至10Pa,再充入高纯氮气至腔体内压强1×105Pa,依次重复执行抽气和充气操作四次,最后再充气至反应腔体恢复常压,待反应腔体冷却后打开反应腔体,取出反应结束的基片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州纤纳光电科技有限公司,未经杭州纤纳光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010136324.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择