[发明专利]一种在陶瓷表面形成带孔状结构的方法在审
申请号: | 202010136610.X | 申请日: | 2020-03-02 |
公开(公告)号: | CN111269027A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 丘智林;丘天 | 申请(专利权)人: | 河源市东方硅源科技有限公司 |
主分类号: | C04B41/87 | 分类号: | C04B41/87 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 517000 广东省河*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 陶瓷 表面 形成 带孔状 结构 方法 | ||
本发明公开了一种在陶瓷表面形成带孔状结构的方法,准备一块陶瓷基板,并对陶瓷基板进行一个清洁,保证表面洁净;加工纳米二氧化硅,并将纳米二氧化硅涂抹在陶瓷基板表面上作为第一层;准备金属氧化物,将金属氧化物喷涂/旋涂在纳米二氧化硅的上端面作为第二层;准备清洗溶液,涂抹在第二层的金属氧化物上,用于溶解金属氧化物并生成孔状结构。本发明通过使用涂层的方法,采取传统的加工工艺,能够快速的制造出,带孔状结构的涂层,通过孔与孔之间的连通可以控制。
技术领域
本发明涉及一种在陶瓷表面形成带孔状结构的方法。
背景技术
现在的表面处理,如果需要孔状结构,都需要激光高能量的钻孔,或者多层光刻,3D打印等复杂工艺和配方,目前并没有一个在陶瓷作为基底有效的制造孔状结构的方法。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是一种在陶瓷表面形成带孔状结构的方法,通过使用涂层的方法,采取传统的加工工艺,能够快速的制造出,带孔状结构的涂层。
本发明是通过以下技术方案来实现的:一种在陶瓷表面形成带孔状结构的方法,具体包括以下几个步骤:
S1、准备一块陶瓷基板,并对陶瓷基板进行一个清洁,保证表面洁净;
S2、加工纳米二氧化硅,并将纳米二氧化硅涂抹在陶瓷基板表面上作为第一层;
S3、准备金属氧化物,将金属氧化物喷涂/旋涂在纳米二氧化硅的上端面作为第二层;
S4、准备清洗溶液,涂抹在第二层的金属氧化物上,用于溶解金属氧化物并生成孔状结构。
作为优选的技术方案,所述金属氧化物为与纳米二氧化硅不轻易反应的金属氧化物。
作为优选的技术方案,所述金属氧化物为CdTe/CdS/ZnS大分子金属氧化物。
作为优选的技术方案,所述清洗溶液采用硝酸和盐酸的混合物。
作为优选的技术方案,清洗溶液采用98%浓度的硝酸和37%的盐酸,将硝酸以及盐酸按照1:3的重量比混合。
作为优选的技术方案,孔状结构中,孔与孔之间的连通,通过控制金属氧化物的溶剂和纳米二氧化硅的浓度、加工过工艺的时间、速度、温度来调整相结合。
本发明的有益效果是:本发明通过使用涂层的方法,采取传统的加工工艺,能够快速的制造出,带孔状结构的涂层,通过孔与孔之间的连通可以控制。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的清洗前的结构图;
图2为本发明的清洗后的结构图。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。
如图1所示,准备一块陶瓷基板,并对陶瓷基板进行一个清洁,保证表面洁净;然后加工纳米二氧化硅,并将纳米二氧化硅涂抹在陶瓷基板表面上作为第一层;再准备金属氧化物,将金属氧化物喷涂/旋涂在纳米二氧化硅的上端面作为第二层;准备清洗溶液,涂抹在第二层的金属氧化物上,用于溶解金属氧化物并生成孔状结构,如图2所示。
其中,金属氧化物为与纳米二氧化硅不轻易反应的金属氧化物,本实施例中,金属氧化物为CdTe/CdS/ZnS大分子金属氧化物。
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