[发明专利]使用超材料的光学成像设备及使用超材料的光学成像方法有效
| 申请号： | 202010139613.9 | 申请日： | 2020-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN111665576B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 徐旻我;李尚训;金哲基;金哉宪;李宅振;禹德夏 | 申请（专利权）人： | 韩国科学技术研究院;财团法人波动能量极限制御研究团 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G01N21/59 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李琳;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 材料 光学 成像 设备 方法 | ||
1.一种使用超材料的光学成像设备，所述光学成像设备包括：
超材料阵列传感器，所述超材料阵列传感器包括由超材料制成的多个单元结构并与观察对象相邻放置；
成像光束提供单元，所述成像光束提供单元向所述超材料阵列传感器提供成像光束；
控制光束提供单元，所述控制光束提供单元控制提供至所述单元结构的控制光束以阻挡入射在所述单元结构上的所述成像光束；
成像光束测量单元，所述成像光束测量单元通过使用当所述成像光束穿过所述单元结构时所述超材料阵列传感器的成像光束透射量和当所述控制光束聚焦在所述单元结构上以阻挡入射在所述单元结构上的所述成像光束时所述超材料阵列传感器的成像光束透射量之间的差，来测量穿过所述单元结构的单元结构成像光束透射量；以及
图像获取单元，所述图像获取单元通过使用相对于所述多个单元结构中的每一个的由所述成像光束测量单元测量的所述单元结构成像光束透射量，来获取所述观察对象的光学分析图像，所述光学分析图像具有与构成所述单元结构的所述超材料的尺寸相对应的空间分辨率。
2.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，构成所述单元结构的所述超材料的尺寸小于所述成像光束的衍射极限。
3.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述控制光束具有预设为与构成所述单元结构的所述超材料的尺寸相对应的光斑尺寸。
4.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述成像光束为太赫兹波的形式，并且所述控制光束具有在可见光波长范围内的波长。
5.一种使用超材料的光学成像方法，包括：
a)向超材料阵列传感器提供成像光束，所述超材料阵列传感器包括由超材料制成的多个单元结构并与观察对象相邻放置；
b)控制提供至所述单元结构的控制光束以阻挡入射在所述单元结构上的所述成像光束；
c)通过使用当所述成像光束穿过所述单元结构时所述超材料阵列传感器的成像光束透射量和当所述控制光束聚焦在所述单元结构上以阻挡入射在所述单元结构上的所述成像光束时所述超材料阵列传感器的成像光束透射量之间的差，来测量穿过所述单元结构的单元结构成像光束透射量；以及
d)通过使用相对于所述多个单元结构中的每一个的根据操作c)测得的所述单元结构成像光束透射量来获取所述观察对象的光学分析图像，所述光学分析图像具有与构成所述单元结构的所述超材料的尺寸相对应的空间分辨率。
6.根据权利要求5所述的光学成像方法，其中，构成所述单元结构的所述超材料的尺寸小于所述成像光束的衍射极限。
7.根据权利要求5所述的光学成像方法，其中，所述控制光束具有预设为与构成所述单元结构的所述超材料的尺寸相对应的光斑尺寸。
8.根据权利要求5所述的光学成像方法，其中，所述成像光束为太赫兹波的形式，并且所述控制光束具有在可见光波长范围内的波长。
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