[发明专利]抗反射膜以及具有此抗反射膜的偏光板

权利要求书

1.一种抗反射膜，其特征在于包含：

基材；

硬涂层，其位于该基材之上；以及

低折射率层，其位于该硬涂层的上，该低折射率层包含；

经氟和丙烯酸酯改性的聚硅氧烷树脂，该经氟和丙烯酸酯改性的聚硅氧烷树脂的数量平均分子量(Mn)小于10,000；

多个中空状二氧化硅纳米粒子；

起始剂；以及

包含具有全氟聚醚官能基的(甲基)丙烯酰改质的有机硅化合物的流平剂；

其中，该抗反射膜的反射率小于1.1％，且水接触角小于125°。

2.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，该经氟和丙烯酸酯改性的聚硅氧烷树脂具有硅氧烷主链、含有氟烷基的支链以及含有丙烯酸酯官能基的支链，且氟含量介于1％至15％之间，折射率介于1.43至1.49之间且氟硅比介于0.05至1.00之间。

3.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，相对于每百重量份的该经氟和丙烯酸酯改性的聚硅氧烷树脂，该些中空状二氧化硅纳米粒子的使用量介于90重量份至350重量份之间。

4.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，该些中空状二氧化硅纳米粒子的平均一次粒径介于50纳米(nm)至100纳米(nm)之间。

5.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，该具有全氟聚醚官能基的(甲基)丙烯酰改质的有机硅化合物包含以下列式(I)所表示的化合物或以下列式(II)所表示的化合物：

其中，b'₁+b'₂介于2至6.5之间，且Rf'¹²为下式所表示的基团：

其中，n1介于2至100之间。

6.如权利要求5所述的抗反射膜，其特征在于，该具有全氟聚醚官能基的(甲基)丙烯酰改质的有机硅化合物的分子量介于1,500至16,000之间。

7.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，相对于每百重量份的该经氟和丙烯酸酯改性的聚硅氧烷树脂，该流平剂的使用量介于1重量份至45重量份之间。

8.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，该低折射率层还包含氟化聚氨酯寡聚物，且该氟化聚氨酯寡聚物的官能度介于2至6之间。

9.如权利要求8所述的抗反射膜，其特征在于，相对于每百重量份的该经氟和丙烯酸酯改性的聚硅氧烷树脂，该氟化聚氨酯寡聚物的使用量介于25重量份至230重量份之间。

10.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，相对于每百重量份的该经氟和丙烯酸酯改性的聚硅氧烷树脂，该起始剂的使用量介于1.5重量份至20重量份之间。

11.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，该起始剂选自由羟基环己基苯甲酮、(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基-1-丙酮、聚[2-羟基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮]以及2-羟基-1-[4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苯氧基]苯基]-2-甲基丙烷-1-酮所组成的群组的至少之一或其组合。

12.如权利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，该硬涂层包含：聚氨酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物以及起始剂。

13.如权利要求12所述的抗反射膜，其特征在于，该硬涂层还包含：至少一(甲基)丙烯酸酯单体、多个二氧化硅纳米粒子、多个有机微粒子或流平剂。

14.一种偏光板，具备偏光元件，其特征在于，该偏光板于该偏光元件表面具有如权利要求1至13项中任一所述的抗反射膜。