[发明专利]新型HPK1抑制剂及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202010140894.X 申请日: 2020-03-03
公开(公告)号: CN113336747A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 江磊;冯志勇;金贤;刘胜洋;石倩;寿建勇;徐圆;张建华;赵海霞 申请(专利权)人: 轶诺(浙江)药业有限公司;上海轶诺药业有限公司
主分类号: C07D471/04 分类号: C07D471/04;C07D401/04;C07D417/14;C07D401/14;C07D405/14;A61P35/00;A61P35/02;A61P35/04;A61P29/00;A61K31/496;A61K31/4725;A61K31/506;A61K31/4545
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 马思敏;徐迅
地址: 312000 浙江省绍兴市绍兴滨*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 新型 hpk1 抑制剂 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种如下式I所示的化合物,或其药学上可接受的盐、光学异构体或水合物;

其中,

X选自N或CH,其中,所述的CH可以进一步被R1取代;

Ar环选自下组:6-10元芳香环,或5-10元的杂芳环;

B环选自下组:6-12元芳香环,或5-12元的杂芳环;或含有选自下组的环结构单元的8-15元二环并环:6-10元芳香环、5-10元的杂芳环、3-10元杂环基、C3-C8环烷基;

m为0、1、2或3;

n和p各自独立地为0、1、2、3或4;

Re选自下组:取代或未取代的C1-C6烷基、取代或未取代的C3-C8环烷基、取代或未取代的具有1-3个选自N、S和O的杂原子的3-10元杂环基;其中,所述的取代优选包括一个或多个选自下组的基团:-N(Rc)2

Rc选自下组:H、或取代或未取代的C1-C5的烷基;

Rf选自下组:氢、卤素、CN、取代或未取代的C1-C6烷基、-NH2、R9R10N-C(=O)-;

各个R1、R2、R3和Rg各自独立地选自下组:H、卤素、CN、取代或未取代的C1-C6烷基、取代或未取代的C1-C6烷氧基、取代或未取代的C3-C8环烷基、取代或未取代的具有1-3个选自下组N、S和O的杂原子的3-12元杂环基、取代或未取代的C6-C10芳基、取代或未取代的具有1-3个选自下组N、S和O的杂原子的3-10元杂芳基、R7-C(=O)-、R8-S(=O)2-、R9R10N-C(=O)-、R9R10C(=O)N(Rc)-、R11R12N-S(=O)2-;

各个R7、R8、R9、R10、R11、R12各自独立地选自下组:H、取代或未取代的C1-C6烷基、取代或未取代的C1-C6烷氧基、取代或未取代的C3-C8环烷基、取代或未取代的具有1-3个选自下组N、S和O的杂原子的3-12元杂环基;

除非特别说明,所述的“取代”是指被选自下组的一个或多个(例如2个、3个、4个等)取代基所取代:卤素、C1-C6烷氧基、卤代的C1-C6烷氧基、C3-C8环烷基、卤代的C3-C8环烷基、甲基砜基、氧代(=O)、-CN、羟基、羧基、C1-C6酰胺基(-C(=O)-N(Rc)2或-NH-C(=O)(Rc))、-N(Rc)2、或取代或未取代的选自下组的基团:C1-C6烷基、C6-C10芳基、具有1-3个选自N、S和O的杂原子的5-10元杂芳基、-(CH2)-C6-C10芳基、-(CH2)-(具有1-3个选自N、S和O的杂原子的5-10元杂芳基)、-(具有1-3个选自N、S和O的杂原子的5-10元亚杂芳基)-(C1-C6烷基)、具有1-3个选自下组N、S和O的杂原子的3-12元杂环基(包括单环、螺环、桥环或并环),且所述的取代基选自下组:卤素、C1-C6烷基、C1-C6亚烷基-OH、C1-C6烷氧基、氧代、-S(O)2CH3、-CN、-OH、C6-C10芳基、具有1-3个选自N、S和O的杂原子的3-10元杂芳基、-C(O)CHNH2、-C(O)CHOH;

且所述的式I化合物中,各个手性中心为R构型或S构型。

2.如权利要求1所述的化合物,或其药学上可接受的盐、光学异构体或水合物,其特征在于,所述的Re选自下组:取代或未取代的C1-C6烷基、取代或未取代的具有1-3个选自N、S和O的杂原子的3-10元杂环基。

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