[发明专利]光学成像系统及光学成像系统的制造方法在审

专利信息
申请号: 202010144568.6 申请日: 2020-03-04
公开(公告)号: CN111190259A 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 张开开;程立邦;丁先翠;李建军;戴付建;赵烈烽 申请(专利权)人: 浙江舜宇光学有限公司
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 李荟萃
地址: 315499 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统包括:

镜筒(10);

至少两个镜片,沿光轴从物侧至像侧,至少两个所述镜片依次设置在所述镜筒(10)内;

隔圈,位于相邻两个所述镜片之间,所述隔圈与相邻两个所述镜片中的任意一个一体成型。

2.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统还包括设置在所述隔圈的表面(21)的微结构(211),所述隔圈通过所述微结构(211)与相邻两个所述镜片中的任意一个锚固连接。

3.根据权利要求2所述的光学成像系统,其特征在于,所述隔圈与所述微结构(211)为一体成型。

4.根据权利要求2所述的光学成像系统,其特征在于,所述微结构(211)包括微米级微结构(212)和设置在所述微米级微结构(212)上的纳米级微结构(213)。

5.根据权利要求4所述的光学成像系统,其特征在于,所述微米级微结构(212)为设在所述表面(21)的多个第一凹孔(214)和多个凸起(215),其中,相邻两个所述第一凹孔(214)之间形成一个所述凸起(215)。

6.根据权利要求5所述的光学成像系统,其特征在于,多个所述第一凹孔(214)的形状不相同,或者,多个所述第一凹孔(214)的尺寸不相同;或者,多个所述凸起(215)的形状不相同,或者,多个所述凸起(215)的尺寸不相同。

7.根据权利要求5所述的光学成像系统,其特征在于,所述纳米级微结构(213)包括第二凹孔(216),所述第一凹孔(214)的内壁面和所述凸起(215)的表面均设有多个所述第二凹孔(216);或者,所述纳米级微结构(213)包括第二凹孔(216),所述第一凹孔(214)的内壁面设有多个所述第二凹孔(216);或者,所述纳米级微结构(213)包括第二凹孔(216),所述凸起(215)的表面设有多个所述第二凹孔(216)。

8.根据权利要求7所述的光学成像系统,其特征在于,多个所述第二凹孔(216)的形状不相同,或者,多个所述第二凹孔(216)的尺寸不相同。

9.一种光学成像系统的制造方法,其特征在于,所述制造方法制成权利要求1至8中任一项所述的光学成像系统,所述制造方法包括以下步骤:

步骤S30:通过注塑成型工艺将所述隔圈与一个镜片设为一体结构。

10.根据权利要求9所述的制造方法,其特征在于,在所述步骤S30之前,所述制造方法还包括:

步骤S10:在所述隔圈的表面(21)设置微米级微结构;

步骤S20:在所述步骤S10之后,在所述微米级微结构的表面设置纳米级微结构。

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