[发明专利]图像传感器列处理模块隔直电容的实现方法有效
申请号: | 202010149469.7 | 申请日: | 2020-03-06 |
公开(公告)号: | CN113365005B | 公开(公告)日: | 2023-06-09 |
发明(设计)人: | 乔劲轩;李敏兰 | 申请(专利权)人: | 格科微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | H04N25/76 | 分类号: | H04N25/76;H01L27/146 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像传感器 处理 模块 电容 实现 方法 | ||
1.一种图像传感器列处理模块隔直电容的实现方法,其特征在于,通过灵活选择隔直电容的电容类型、电容值大小以及版图布局,使得像素单元的输出信号端耦合至容值密度较高、耐压值较低的第一电容,参考信号端耦合至容值密度较低、耐压值较高的第二电容,以实现输出信号和参考信号在列处理模块的隔直。
2.如权利要求1所述的图像传感器列处理模块隔直电容的实现方法,其特征在于,所述第一电容的电容值大于等于第二电容的电容值,从而节省电路设计面积,优化图像传感器的性能。
3.如权利要求1所述的图像传感器列处理模块隔直电容的实现方法,其特征在于,所述第一电容与第二电容的版图布局采用不对称设计。
4.如权利要求1所述的图像传感器列处理模块隔直电容的实现方法,其特征在于,所述第一电容与第二电容的类型为MIM电容、MOM电容、沟槽电容、PIP电容、薄氧MOS电容、厚氧MOS电容中任意一种。
5.如权利要求4所述的图像传感器列处理模块隔直电容的实现方法,其特征在于,所述第一电容为薄氧MOS电容,所述第二电容为厚氧MOS电容。
6.如权利要求4所述的图像传感器列处理模块隔直电容的实现方法,其特征在于,所述薄氧MOS电容为逻辑器件,所述厚氧MOS电容为输入输出器件。
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