[发明专利]基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法

权利要求书

1.一种基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，

所述垂直腔面发射激光器阵列的出光侧设置有用于改变光路方向的光学结构，所述垂直腔面发射激光器阵列包括多个区域，各区域分别设置有至少一个垂直腔面发射激光器；

按照预定次序分别点亮不同区域的所述垂直腔面发射激光器，并分别接收不同区域的所述垂直腔面发射激光器所发射激光的反射光；

根据各区域所述垂直腔面发射激光器的点亮时间及接收对应反射光的时间，确定所扫描区域的空间距离。

2.根据权利要求1所述的基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，所述光学结构用于对所述光路方向的改变角度在0°-180°之间。

3.根据权利要求2所述的基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，所述光学结构为凸透镜、凸透镜阵列、菲涅尔透镜、菲涅尔透镜阵列、衍射光栅、亚波长光栅、超透镜、超结构及超表面中的至少任一种。

4.根据权利要求1-3任一项所述的基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，所述区域为规则图形区域或非规则图形区域。

5.根据权利要求4所述的基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，各所述区域内设置有多个所述垂直腔面发射激光器，各所述区域内的多个所述垂直腔面发射激光器线性等距排列、线性非等距排列、矩阵排列或随机排列。

6.根据权利要求5所述的基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，不同区域间的间隔距离相同或不同。

7.根据权利要求1-3任一项所述的基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，各所述垂直腔面发射激光器位于所述光学结构的焦距上。

8.根据权利要求7所述的基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，根据以下关系式确定各区域出射光的角度差：

其中，Δx为各区域距离光学结构光轴的位置差，f为光学结构的焦距。

9.根据权利要求8所述的基于垂直腔面发射激光器阵列的测距方法，其特征在于，所述位置差的范围在10μm-20mm之间。