[发明专利]显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 202010152872.5 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN111208675B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 岳阳;王倩;杨桐;董立文;舒适;于勇;姚琪;黄海涛;李翔;徐传祥;谭纪风 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1333
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 吴俣;姜春咸
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其中,包括:

导光结构层,具有出光侧,配置为使内部的光线从所述出光侧的预设位置射出;

显示结构层,设置在所述导光结构层的出光侧,包括调光结构以及位于所述调光结构远离所述导光结构层一侧的黑矩阵和反射矩阵,所述调光结构配置为控制从所述预设位置射出的光线入射到所述黑矩阵所在区域和/或所述反射矩阵所在区域;

吸光结构层,位于所述调光结构远离所述黑矩阵的一侧,配置为吸收经由所述黑矩阵的表面反射出的光线,且使得经由所述反射矩阵的表面反射出的光线通过;

所述显示结构层具有显示区,所述显示区包括多个亚像素区;

所述导光结构层包括位于所述预设位置且与所述亚像素区一一对应的多个取光口;

所述黑矩阵包括与所述亚像素区一一对应的多个遮光单元;

所述反射矩阵包括与所述亚像素区一一对应的多个反光单元;

吸光结构层包括与所述亚像素区一一对应的多个吸光单元;

所述取光口、所述遮光单元、所述反光单元和所述吸光单元均位于对应的所述亚像素区内;

所述遮光单元包括:第一遮光图形和第二遮光图形;

所述第二遮光图形位于所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧,所述第二遮光图形远离所述第一遮光图形的一侧表面为第一倾斜面,所述第一倾斜面所处平面与所述第一遮光图形所处平面相交,且所述第一倾斜面朝向位于同一亚像素区内的所述取光口。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其中,在每个所述亚像素区内,相对于所述第二遮光图形,所述反光单元更远离所述取光口;

所述第二遮光图形在所述第一遮光图形所处平面上的正投影与反光单元在所述第一遮光图形所处平面上的正投影相接触。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其中,在每个所述亚像素区内,所述反光单元位于所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧;

所述反光单元和所述第二遮光图形在所述第一遮光图形靠近所述调光结构的一侧表面并排设置且相接触。

4.根据权利要求3所述的显示面板,其中,所述反光单元包括:本体和反射层,所述本体远离所述第一遮光图形的一侧表面为第二倾斜面,所述第二倾斜面所处平面与所述第一遮光图形所处平面相交,且所述第二倾斜面朝向位于同一亚像素区内的所述取光口,所述反射层设置于所述第二倾斜面上。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其中,所述本体、所述第一遮光图形和所述第二遮光图形,三者一体成型。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述调光结构包括液晶层,所述显示结构层还包括:衬底基板、第一电极层和第二电极层;

所述第一电极层位于所述衬底基板靠近所述液晶层的一侧,所述黑矩阵和所述反射矩阵位于所述第一电极层靠近所述液晶层的一侧,所述第二电极层位于所述液晶层远离所述黑矩阵的一侧;

所述吸光结构层位于所述第二电极层和所述液晶层之间。

7.根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述显示结构层还包括:彩色滤光矩阵,所述彩色滤光矩阵设置在所述调光结构远离所述反射矩阵的一侧,所述彩色滤光矩阵配置为对从所述预设位置射出的光线进行滤光和/或对经由所述反射矩阵的表面反射出的光线进行滤光。

8.根据权利要求6所述的显示面板,其中,所述第二电极层和所述吸光结构层之间设置有防护层,且所述防护层与所述吸光结构层接触,所述防护层配置为在通过构图工艺形成所述吸光结构层的图形的工艺过程中防止在非图形区域出现材料残留。

9.根据权利要求8所述的显示面板,其中,所述吸光结构层的材料包括碳;

所述防护层的材料包括氧化硅。

10.根据权利要求1所述的显示面板,其中,在所述导光结构层远离所述调光结构的一侧设置有散射层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010152872.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top