[发明专利]聚焦装置和聚焦方法

权利要求书

1.一种聚焦装置，其特征在于，包括沿光轴依次设置的光源、第一调制器、第二调制器和反射元件，所述光源用于产生入射光束，所述第一调制器用于将所述入射光束调制为第一径向偏振光，所述第二调制器用于对所述第一径向偏振光进行振幅调制以形成第二径向偏振光，所述反射元件用于将所述第二径向偏振光进行聚焦以得到聚焦光斑。

2.根据权利要求1所述的聚焦装置，其特征在于，所述光源用于产生贝塞尔-高斯形的所述入射光束。

3.根据权利要求1所述的聚焦装置，其特征在于，所述第一调制器包括径向偏振片。

4.根据权利要求1所述的聚焦装置，其特征在于，所述第二调制器包括光阑，所述光阑包括遮光区和围绕所述遮光区的透光区，所述遮光区用于遮挡所述第一径向偏振光，所述透光区用于透过所述第一径向偏振光以形成所述第二径向偏振光。

5.根据权利要求4所述的聚焦装置，其特征在于，所述遮光区呈圆形，所述透光区呈环绕所述遮光区的环形，所述遮光区和所述透光区的圆心均与所述光阑的圆心重合。

6.根据权利要求5所述的聚焦装置，其特征在于，所述遮光区的半径与所述透光区的外径的比值范围为：0.5-0.9999。

7.根据权利要求5所述的聚焦装置，其特征在于，所述聚焦装置包括控制器，所述控制器用于调节所述遮光区的半径。

8.根据权利要求1所述的聚焦装置，其特征在于，所述反射元件的数值孔径的范围为0.8-1。

9.根据权利要求1所述的聚焦装置，其特征在于，所述反射元件包括抛物面反射镜。

10.一种聚焦方法，其特征在于，包括：

产生入射光束；

将所述入射光束调制为第一径向偏振光；

对所述第一径向偏振光进行振幅调制以形成第二径向偏振光；

将所述第二径向偏振光进行聚焦以得到聚焦光斑。

11.根据权利要求10所述的聚焦方法，其特征在于，所述聚焦方法用于聚焦装置，所述聚焦装置包括沿光轴依次设置的光源、第一调制器、第二调制器和反射元件；产生入射光束，包括：

控制所述光源产生所述入射光束；

将所述入射光束调制为第一径向偏振光，包括：

通过所述第一调制器将所述入射光束调制为第一径向偏振光；

对所述第一径向偏振光进行振幅调制以形成第二径向偏振光，包括：

通过所述第二调制器对所述第一径向偏振光进行振幅调制以形成第二径向偏振光；

将所述第二径向偏振光进行聚焦以得到聚焦光斑，包括：

通过所述反射元件将所述第二径向偏振光进行聚焦以得到聚焦光斑。

12.根据权利要求11所述的聚焦方法，其特征在于，所述第二调制器包括光阑，所述光阑包括遮光区和围绕所述遮光区的透光区，所述遮光区用于遮挡所述第一径向偏振光，所述透光区用于透过所述第一径向偏振光以形成所述第二径向偏振光，所述遮光区呈圆形，所述透光区呈环绕所述遮光区的环形，所述遮光区和所述透光区的圆心均与所述光阑的圆心重合；所述聚焦方法包括：

调节所述遮光区的半径，以调节所述聚焦光斑的焦深。