[发明专利]气体传感器及其制备方法

权利要求书

1.一种气体传感器，其特征在于，包括：基底，覆盖在所述基底的表面的膜本体；

所述膜本体由气敏物质构成，所述膜本体包括有气敏物质的活性区域和无气敏物质的惰性区域，活性区域和惰性区域在基底上交错排列；

所述基底为聚二甲基硅氧烷；所述膜本体包括若干独立的单元膜，相邻所述单元膜之间具有间隙；

所述单元膜构成所述活性区域，所述间隙构成所述惰性区域；

所述活性区域的总面积与所述惰性区域的总面积之比为r，0r≤5。

2.根据权利要求1所述的气体传感器，其特征在于，

所述膜本体的厚度在1nm至1cm之间。

3.一种气体传感器的制备方法，其特征在于，用于制备如权利要求1所述的气体传感器，包括如下步骤：

将气敏物质溶解在溶剂中形成溶液，将具有至少一个引导凸起的引导介质装配在所述基底的表面，使所述引导凸起的端面与所述基底的表面紧密接触；

将所述溶液倒在所述基底的表面，所述溶液在所述基底的表面经过结晶构成所述膜本体的活性区域，所述引导凸起在所述基底上占据的部分表面因未结晶而构成所述惰性区域。

4.一种气体传感器的制备方法，其特征在于，用于制备如权利要求1-2中任一项所述的气体传感器，包括如下步骤：

将气敏物质溶解在溶剂中形成溶液，通过3D打印设备将所述溶液打印出所述活性区域的结构，所述溶液经过结晶构成所述膜本体的活性区域。