[发明专利]以有机金属溶液为主的高分辨率图案化组合物有效
申请号: | 202010158111.0 | 申请日: | 2014-07-25 |
公开(公告)号: | CN111240158B | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | S·T·迈耶斯;D·A·凯斯勒;蒋凯;J·安德森;A·格伦维尔 | 申请(专利权)人: | 因普利亚公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/32;G03F7/30;G03F7/09;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/004;G03F1/56;G03F1/48;H01L21/56 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王允方 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 金属 溶液 为主 高分辨率 图案 组合 | ||
1.一种前体溶液,其包含有机液体和具有支链烷基配体的金属多核氧/羟阳离子,所述支链烷基配体具有金属浓度为从0.01M到1.4M的金属碳键,其中具有支链烷基配体的所述金属多核氧/羟阳离子形成氧-羟网状物,所述氧-羟网状物同时具有M-O-H连接键和M-O-M连接键,其中“M”代表金属原子。
2.根据权利要求1所述的前体溶液,其中所述有机液体包括醇。
3.根据权利要求1所述的前体溶液,其中所述有机液体包括酯或酮。
4.根据权利要求1所述的前体溶液,其中所述支链烷基配体包括叔丁基配体。
5.根据权利要求1所述的前体溶液,其中所述金属为锡。
6.一种图案化衬底,其包含具有表面和第一涂层的衬底,所述第一涂层在沿所述表面的选择区域处且在沿所述表面的其它区域处不存在,所述第一涂层包含金属氧-羟网状物和具有金属阳离子的支链烷基配体,所述金属阳离子具有含有金属碳键和/或金属羧酸盐键的有机配体,其中所述氧-羟网状物同时具有M-O-H连接键和M-O-M连接键,其中“M”代表金属原子,且其中所述第一涂层可溶于至少一种有机液体中。
7.根据权利要求6所述的图案化衬底,其中所述支链烷基配体包括叔丁基配体。
8.根据权利要求6所述的图案化衬底,所述第一涂层具有不超过10微米的平均厚度和沿所述涂层在任何点处与所述平均厚度 相差不超过50%的厚度变化。
9.根据权利要求6所述的图案化衬底,其中连接到具有金属碳键的所述金属阳离子的有机配体与所述金属阳离子之间的摩尔比是0.5到3。
10.根据权利要求6所述的图案化衬底,其中所述金属为锡。
11.根据权利要求6所述的图案化衬底,其中所述第一涂层有效溶于选自下列的至少一些有机液体:芳香化合物、酯、醇、酮、醚和其组合,并且所述图案化衬底进一步包括第二涂层,所述第二涂层在沿所述表面的不存在所述第一涂层的区域处,其中所述第二涂层溶于碱水溶液中。
12.一种前体溶液,其包含有机液体、具有至有机配体的金属碳键或金属羧酸盐键的金属多核氧羧酸盐以及金属氧-羟网状物,所述金属氧-羟网状物同时具有M-O-H连接键和M-O-M连接键,其中“M”代表金属原子,且其中所述前体溶液具有从0.01M到1.4M的金属浓度。
13.根据权利要求12所述的前体溶液,其中所述前体溶液具有0.5厘泊(cP)到150cP的粘度。
14.根据权利要求12所述的前体溶液,其中所述有机液体具有至少10℃的闪点和在20℃下小于10kPa的蒸气压力。
15.根据权利要求12所述的前体溶液,其中所述金属与羧酸盐的比例小于2。
16.一种经涂布的衬底,所述衬底包含辐射敏感涂层,所述涂层包含具有金属阳离子的金属氧-羟网状物,所述金属阳离子具有含有金属碳键和/或金属羧酸盐键的有机配体,其中所述氧-羟网状物同时具有M-O-H连接键和M-O-M连接键,其中“M”代表金属原子,且其中相比于用与所述经涂布的衬底相同方法制备且立刻用30-kV电子束图案化和使用与所述经涂布的衬底相同方法显影的对照经涂布的衬底,所述经涂布的衬底能够在大气环境下室温环境中黑暗中存储39天,然后用30-kV电子束图案化和显影,在SEM成像下所述经涂布的衬底的图像保真度无可观察到的降格。
17.一种前体溶液,其包含有机液体和从0.01M到1.4M的金属多核氧/羟阳离子,所述金属多核氧/羟阳离子具有含有金属碳键和/或金属羧酸盐键的有机配体,其中具有有机配体的所述金属多核氧/羟阳离子形成氧-羟网状物,所述氧-羟网状物同时具有M-O-H连接键和M-O-M连接键,其中“M”代表金属原子,且其中相较于使用经图案化未经存储的前体溶液的相同方式处理的等效前体溶液所形成的对照图案化衬底,当所述前体溶液能够在大气环境下室温环境中黑暗中存储39天,并且在存储后旋涂到晶片衬底上,然后在热板上于100℃下烘烤2分钟以制备经涂覆的衬底,所述经涂覆的衬底然后用30-kV电子束图案化,在PGMEA中显影30秒,冲洗并且于200℃下硬烘烤2分钟,在SEM成像下所述经涂覆的衬底的图像保真度无可观察到的降格。
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