[发明专利]两轴双摆精密研磨抛光机有效

专利信息
申请号: 202010158397.2 申请日: 2020-03-09
公开(公告)号: CN111251120B 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 张习兵;邹德明 申请(专利权)人: 无锡市锡斌光电设备有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B47/00;B24B51/00
代理公司: 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 代理人: 陆滢炎
地址: 214000 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 两轴双摆 精密 研磨 抛光机
【说明书】:

发明公开了一种两轴双摆精密研磨抛光机。包括主轴旋转机构、摆轴旋转机构;主轴旋转机构、摆轴旋转机构各自独立转动;所述主轴旋转机构通过主轴带动转盘转动;所述摆轴旋转机构通过主摆轴、副摆轴分别带动主摆盘、副摆盘转动,主摆盘、副摆盘上分别设置有直线轴座,直线轴座间通过直线轴承连接;主摆盘、副摆盘分别偏心设置在主摆轴、副摆轴上,主摆盘上的直线轴座与直线轴承间为固定连接,副摆盘上的直线轴座与直线轴承间为滑动连接,顶针的运动轨迹为不规则形状,运动轨迹根据主摆盘、副摆盘的偏心值大小变化。本发明大大提高了镜面的光洁度。

技术领域:

本发明属于研磨抛光机生产技术领域,特别涉及一种两轴双摆精密研磨抛光机。

背景技术:

现有的摆轴研磨抛光机顶针运动轨迹规则,运行过程中轨迹不会变化,研磨出的镜片上研磨轨迹明显,镜片光洁度较差。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

发明内容:

本发明的目的在于提供一种两轴双摆精密研磨抛光机,从而克服上述现有技术中的缺陷。

为实现上述目的,本发明提供了一种两轴双摆精密研磨抛光机,包括:主轴旋转机构、摆轴旋转机构;机架上设置有主轴旋转机构、摆轴旋转机构,主轴旋转机构、摆轴旋转机构各自独立转动;所述主轴旋转机构包括主轴电机、主轴电机轮、传动带、主轴座、主轴、转盘,主轴电机、主轴座设置在机架上,主轴座上设置有主轴,主轴、主轴电机输出端分别套装有主轴电机轮,主轴电机轮间通过传动带连接,主轴顶端与转盘连接;所述摆轴旋转机构包括摆轴电机、电机皮带轮、主摆皮带轮、主摆轴座、主摆轴、副摆皮带轮、副摆轴、副摆轴座、主摆盘、副摆盘、直线轴承、直线轴座、主传动带、副传动带、固定座、顶针座、笔架、顶针,摆轴电机、主摆轴座、副摆轴座设置在机架上,主摆轴座、副摆轴座上分别设置有主摆轴、副摆轴,主摆轴、副摆轴上分别套装有主摆皮带轮、副摆皮带轮,摆轴电机输出端设置有电机皮带轮,电机皮带轮与主摆皮带轮间通过主传动带连接,主摆皮带轮与副摆皮带轮间通过副传动带连接,主摆轴、副摆轴顶部分别设置有主摆盘、副摆盘,主摆盘、副摆盘上分别设置有直线轴座,直线轴座间通过直线轴承连接;直线轴承上套装有固定座,固定座上设置有顶针座,顶针座上设置有笔架,笔架上设置有顶针,顶针位于转盘上方;主摆盘、副摆盘分别偏心设置在主摆轴、副摆轴上,主摆盘上的直线轴座与直线轴承间为固定连接,副摆盘上的直线轴座与直线轴承间为滑动连接,副摆盘上的直线轴座在直线轴承上的滑动距离与主摆盘、副摆盘的偏心值大小成正比;摆轴电机上的电机皮带轮通过主传动带带动主摆轴上的主摆皮带轮及主摆盘作圆周运动,主摆皮带轮同时带动副摆皮带轮及副摆盘作圆周运动,由直线轴承带动顶针在主摆轴与副摆轴的转动下作前后左右不规则运动,顶针的运动轨迹根据主摆盘、副摆盘的偏心值大小变化。

优选地,技术方案中,电机皮带轮与主摆皮带轮大小一致,主摆皮带轮的直径大于副摆皮带轮的直径,副摆轴的转速大于主摆轴的转速。

优选地,技术方案中,主摆皮带轮与副摆皮带轮的直径比为5:4,主摆轴与副摆轴的转速比为4:5。

优选地,技术方案中,主摆盘、副摆盘上分别设置有偏心标记、T型槽、调整螺栓,主摆轴顶部位于主摆盘的T型槽内,主摆盘上的调整螺栓与主摆轴连接,副摆轴顶部位于副摆盘的T型槽内,副摆盘上的调整螺栓与副摆轴连接,通过调节调整螺栓,改变主摆盘、副摆盘的偏心值。

优选地,技术方案中,副传动带上设置有涨紧轮。

优选地,技术方案中,两轴双摆精密研磨抛光机还包括主轴-主摆轴变频调速控制器,主轴-主摆轴变频调速控制器选用NH-406Z型控制器,包括电源电路、主轴变频调速电路、主摆轴变频调速电路、主轴-主摆轴启停电路;电源电路上设置有电源总开关、断路器、电源指示灯、主摆轴转速显示屏、主轴转速显示屏,断路器与紧急停止按钮连接。

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