[发明专利]一种检测晶圆缺陷的方法及装置有效
申请号: | 202010159765.5 | 申请日: | 2020-03-10 |
公开(公告)号: | CN111341686B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 宋箭叶 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 201315*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 检测 缺陷 方法 装置 | ||
1.一种检测晶圆缺陷的方法,其特征在于,所述方法包括:
获取所述晶圆上预设范围内的各缺陷的位置信息;
根据所述各缺陷的位置信息和预设的计算公式,计算所述各缺陷的收敛程度;
判断所述收敛程度是否大于预设阈值,如果是,则判定所述晶圆为不合格产品;如果否,则判定所述晶圆为合格产品;
所述预设范围为所述晶圆的晶面,所述位置信息为坐标值;
所述根据所述各缺陷的位置信息和预设的计算公式,计算所述各缺陷的收敛程度的步骤,具体包括:
将所述各缺陷的坐标值输入所述预设的计算公式中;
将所述预设的计算公式的输出值作为所述各缺陷的收敛程度;
其中,所述预设的计算公式包括所述n表示所述各缺陷的总数,所述R表示所述晶圆的半径,所述i表示所述各缺陷的序号,所述ri表示第i个缺陷距离坐标原点的距离,所述μ1表示所述n个ri的平均值;所述晶圆上的坐标系包括x轴和y轴,所述坐标原点为所述晶面的中心;所述π表示圆周率,所述θi表示第i个缺陷的坐标点至所述坐标原点之间的连线与所述x轴之间的夹角,所述μ2表示所述n个θi的平均值。
2.根据权利要求1所述的一种检测晶圆缺陷的方法,其特征在于,所述预设阈值包括第一阈值和第二阈值,所述判断所述收敛程度是否大于预设阈值的步骤,包括:
判断所述P1是否大于所述第一阈值,并且判断所述P2是否大于所述第二阈值,如果所述P1小于或等于所述第一阈值,并且所述P2小于或等于所述第二阈值,则判定所述晶圆为合格产品;否则,判定所述晶圆为不合格产品。
3.根据权利要求1所述的一种检测晶圆缺陷的方法,其特征在于,所述预设阈值包括第三阈值,所述判断所述收敛程度是否大于预设阈值的步骤,包括:
判断所述P1与所述P2之和是否大于所述第三阈值,如果是,则判定所述晶圆为不合格产品;如果否,则判定所述晶圆为合格产品。
4.根据权利要求2所述的一种检测晶圆缺陷的方法,其特征在于,当所述晶圆的半径R=150毫米时,所述第一阈值和所述第二阈值 的取值范围均为[6,8]。
5.根据权利要求1所述的一种检测晶圆缺陷的方法,其特征在于,所述获取所述晶圆上预设范围内的各缺陷的位置信息的步骤之前,还包括:
获取所述晶圆上预设范围内的各缺陷的总数;
判断所述总数是否大于预设的限定值,如果是,则判定所述晶圆为不合格产品;如果否,则执行所述获取所述晶圆上预设范围内的各缺陷的位置信息的步骤。
6.一种检测晶圆缺陷的装置,其特征在于,所述装置包括:
第一获取模块,用于获取所述晶圆上预设范围内的各缺陷的位置信息;
计算模块,用于根据所述各缺陷的位置信息和预设的计算公式,计算所述各缺陷的收敛程度;
第一判断模块,用于判断所述收敛程度是否大于预设阈值,如果是,则判定所述晶圆为不合格产品;如果否,则判定所述晶圆为合格产品;
所述预设范围为所述晶圆的晶面,所述位置信息为坐标值;
所述计算模块具体包括:
输入模块,用于将所述各缺陷的坐标值输入所述预设的计算公式中;
输出模块,用于将所述预设的计算公式的输出值作为所述各缺陷的收敛程度;
其中,所述预设的计算公式包括所述n表示所述各缺陷的总数,所述R表示所述晶圆的半径,所述i表示所述各缺陷的序号,所述ri表示第i个缺陷距离坐标原点的距离,所述μ1表示所述n个ri的平均值;所述晶圆上的坐标系包括x轴和y轴,所述坐标原点为所述晶面的中心;所述π表示圆周率,所述θi表示第i个缺陷的坐标点至所述坐标原点之间的连线与所述x轴之间的夹角,所述μ2表示所述n个θi的平均值。
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