[发明专利]一种铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法在审

专利信息
申请号: 202010160431.X 申请日: 2020-03-10
公开(公告)号: CN111235404A 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 谢添;邱冠周;童雄;谢贤;姚刚;王含渊 申请(专利权)人: 昆明理工大学;中铁资源集团有限公司
主分类号: C22B15/00 分类号: C22B15/00;C22B23/00;C22B3/08;C22B3/26;C22B3/44
代理公司: 昆明润勤同创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 53205 代理人: 王远同
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜萃余液 生产 氢氧化 方法
【权利要求书】:

1.一种铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法,其特征在于,具体步骤如下:

(1)将铜钴氧化矿磨矿后浓密底流加入铜萃余液中至溶液的pH为5.0-5.2,同时向溶液中通入空气至溶液电位为500~600mV,进行除杂沉铜反应,然后将除杂沉铜反应后的矿浆进行固液分离,得到第一滤液和第一滤饼;

(2)将步骤(1)得到的第一滤液送去沉钴工序生产氢氧化钴,将步骤(1)得到的第一滤饼用铜萃余液进行调浆,得到混合浆液,其中第一滤饼与铜萃余液的质量体积比为1:2~4t/m3

(3)将步骤(2)的混合浆液与磨矿滤饼、硫酸和二氧化硫混合后进行搅拌浸出反应,控制浸出反应pH为1.5~2.5、电位为350~400mV;

(4)将步骤(3)搅拌浸出反应后得到的矿浆进行浓密机浓缩,得到第一底流和第一溢流,其中第一溢流为高铜料液,再将第一底流进行多级浓密机逆流洗涤,其中第一级洗涤后得到第二溢流,第二溢流为低铜料液,末级洗涤后得到第二底流,第二底流排入尾矿库;

(5)将步骤(4)得到的高铜料液和低铜料液分别萃取后得到铜萃余液,铜萃余液再返回步骤(1)中。

2.根据权利要求1所述的铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法,其特征在于:步骤(1)中除杂沉铜反应时间为5~7小时,反应温度为50~60℃。

3.根据权利要求1所述的铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法,其特征在于:步骤(2)中调浆时间为14~16min。

4.根据权利要求1所述的铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法,其特征在于:步骤(3)中搅拌浸出反应时间为5~7小时,反应温度为常温。

5.根据权利要求1所述的铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法,其特征在于:步骤(3)中磨矿滤饼的水分为15~25%,硫酸的质量浓度为98.3%,二氧化硫的质量浓度为97%。

6.根据权利要求1所述的铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法,其特征在于:步骤(1)中铜钴氧化矿磨矿后浓密底流的质量浓度为45~55%。

7.根据权利要求1所述的铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法,其特征在于:步骤(3)中的第二底流的质量浓度为45~55%。

8.根据权利要求1所述的铜萃余液生产氢氧化钴的除杂方法,其特征在于:步骤(4)中第一级洗涤加入洗水,且第一底流的固体质量与加入洗水的洗涤比为1:1.5~3 t / m3

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