[发明专利]离心式高通量微滴制备芯片

权利要求书

1.一种离心式高通量微滴制备芯片，其特征在于，包括芯片本体，以及设置在所述芯片本体上的装夹结构和一个或多个高通量微滴制备单元；

所述高通量微滴制备单元包括依次连通的样品腔体、缓冲腔体、微滴收集腔体和废液腔体；

所述缓冲腔体和微滴收集腔体之间通过微孔阵列连通；

所述高通量微滴制备单元还包括用于添加样品至所述样品腔体的加样孔、用于所述样品腔体排气的第一排气孔、用于所述微滴收集腔体排气的第二排气孔、用于所述废液腔体排气的第三排气孔、用于连通所述样品腔体和缓冲腔体的第一流道、用于连通所述微滴收集腔体和废液腔体的第二流道、用于连通所述第一排气孔和样品腔体的第三流道、用于连通所述第二排气孔和微滴收集腔体的第四流道以及用于连通所述第三排气孔和废液腔体的第五流道；

所述第二流道上设置有三通结构，所述微滴收集腔体的出口端通过第六流道与所述三通结构的一个端口连通，所述第四流道和第二流道分别与所述三通结构的另外两个端口连通；

所述装夹结构的中心为所述芯片本体的目标旋转中心，按与所述目标旋转中心中的距离从小到大的排序依次为：样品腔体、微滴收集腔体、缓冲腔体；

所述微孔阵列由若干微孔结构阵列化构成，所述微孔结构的入口端与所述缓冲腔体连通，所述微孔结构的出口端与连通至所述微滴收集腔体。

2.根据权利要求1所述的离心式高通量微滴制备芯片，其特征在于，

所述微滴收集腔体的顶部位置与目标旋转中心的距离小于所述废液腔体的顶部位置与目标旋转中心的距离；

所述第一排气孔与目标旋转中心的距离小于所述加样孔与目标旋转中心的距离；

所述第二排气孔与目标旋转中心的距离小于所述微滴收集腔体的顶部位置与目标旋转中心的距离；

所述第三排气孔与目标旋转中心的距离小于所述废液腔体的顶部位置与目标旋转中心的距离。

3.根据权利要求1所述的离心式高通量微滴制备芯片，其特征在于，所述三通结构与目标旋转中心的距离小于所述微滴收集腔体的顶部位置与目标旋转中心的距离。

4.根据权利要求3所述的离心式高通量微滴制备芯片，其特征在于，所述第三流道的一端与所述样品腔体的远离所述目标旋转中心的一端的底部连通，另一端连通至所述第一排气孔。

5.根据权利要求4所述的离心式高通量微滴制备芯片，其特征在于，所述微孔结构为圆孔，或是为出口端具有凹陷或锥形凸起的方孔。

6.根据权利要求2所述的离心式高通量微滴制备芯片，其特征在于，所述样品腔体内靠近其底部位置处设置有第一微柱阵列；

所述微滴收集腔体内靠近其出口端处设置有第二微柱阵列。

7.根据权利要求2所述的离心式高通量微滴制备芯片，其特征在于，所述第一流道上还设置有节流流道。

8.根据权利要求6所述的离心式高通量微滴制备芯片，其特征在于，所述微滴收集腔体的深度为50μm~500μm，所述样品腔体的深度尺寸为0.2~1.5mm，所述缓冲腔体的深度尺寸为0.2mm~0.8mm，所述废液腔体的深度尺寸为0.5~2.0mm；

所述样品腔体的体积为20μl~200μl，所述缓冲腔体的体积为0.5μl~5μl，所述微滴收集腔体的体积为5μl~100μl，所述废液腔体的体积为20~200μl；

所述第一微柱阵列和第二微柱阵列中的微柱的直径均为30μm~200μm，微柱间距均为50μm~150μm；

所述第一流道的横截面面积为0.001mm²~0.1mm²；

所述微孔结构的横截面面积为0.001mm²~0.1mm²，所述微孔结构的长度为0.3mm~5mm；所述微孔阵列中包含的微孔结构的个数为1~200个。