[发明专利]一种液晶可重构频率选择表面

权利要求书

1.一种液晶可重构频率选择表面，其特征在于，所述选择表面包括单层液晶可重构频率选择表面和双层液晶可重构频率选择表面，所述双层液晶可重构频率选择表面由两组单层液晶可重构频率选择表面通过支撑层的支撑叠加形成，所述单层液晶可重构频率选择表面由单元结构周期排布而成，所述单元结构包括上层基板(1)、上矩形金属环(12)、液晶(2)、下矩形金属环(13)和下层基板(3)，所述上层基板(1)、上矩形金属环(12)、液晶(2)、下矩形金属环(13)和下层基板(3)从上到下依次叠加设置，所述上矩形金属环(12)和下矩形金属环(13)分别蚀刻S型缝隙(11)；

所述上矩形金属环(12)的S型缝隙(11)与下矩形金属环(13)的S型缝隙(11)呈180°旋转对称。

2.根据权利要求1所述一种液晶可重构频率选择表面，其特征在于，所述S型缝隙(11)包括缝隙Ⅰ(4)、缝隙Ⅱ(5)、缝隙Ⅲ(6)、缝隙Ⅳ(7)、缝隙Ⅴ(8)、缝隙Ⅵ(9)和缝隙Ⅶ(10)，所述缝隙Ⅰ(4)的尾端连接缝隙Ⅱ(5)的首端，所述缝隙Ⅱ(5)的尾端连接缝隙Ⅲ(6)的首端，所述缝隙Ⅲ(6)的尾端连接缝隙Ⅳ(7)的首端，所述缝隙Ⅳ(7)的尾端连接缝隙Ⅴ(8)的首端，所述缝隙Ⅴ(8)的尾端连接缝隙Ⅵ(9)的首端，所述缝隙Ⅵ(9)的尾端连接缝隙Ⅶ(10)。

3.根据权利要求2所述一种液晶可重构频率选择表面，其特征在于，所述单元结构的上矩形金属环(12)或单元结构的下矩形金属环(13)外部轮廓的长或宽为参数P₁，所述参数P₁也是单元结构的外部轮廓的长或宽，所述单元结构的上矩形金属环(12)或单元结构的下矩形金属环(13)外部轮廓的宽或长为参数P₂，所述参数P₂也是单元结构的外部轮廓的宽或长，所述缝隙Ⅱ(5)外缝隙界到单元结构的上矩形金属环(12)或单元结构的下矩形金属环(13)外部轮廓的距离为参数w，所述缝隙Ⅰ(4)的竖向缝隙界到缝隙Ⅳ(7)的左缝隙界距离为参数w_s，所述缝隙Ⅳ(7)的宽度为参数g，所述缝隙Ⅳ(7)的右缝隙界到缝隙Ⅵ(9)的内缝隙界距离为参数a，所述缝隙Ⅰ(4)的上缝隙界到缝隙Ⅲ(6)的下缝隙界距离为参数b。

4.根据权利要求3所述一种液晶可重构频率选择表面，其特征在于，所述参数P₁和参数P₂的取值范围皆为0.08～0.15个介质波长，所述参数w的取值范围为0.1～0.3mm，所述参数a的取值范围为0.02～0.04个介质波长，所述参数b的0.03～0.09个介质波长，所述参数g取值范围为100微米～300微米。

5.根据权利要求1所述一种液晶可重构频率选择表面，其特征在于，所述液晶的厚度小于500微米，所述上层基板(1)和下层基板(3)的厚度均为100微米～1500微米。

6.根据权利要求1所述一种液晶可重构频率选择表面，其特征在于，所述支撑层为低损耗支撑材料，所述支撑层的厚度为0.05～0.34个介质波长，损耗角正切小于0.04。