[发明专利]一种防反射膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种防反射膜及其制备方法，本发明通过采用交替层叠镀制的SiN膜层和SiO₂膜层构成防反射膜，在可见光波段能够起到增透减反的效果；并且在镀制本发明的防反射膜时，只需在一个腔体的不同腔室依次交替镀制层叠的SiN膜层和SiO₂膜层，因此镀制本发明的防反射膜的镀制圈数只需一圈，从而使镀制设备稼动率较高(效率较高)、镀制工艺过程较短，使得产品附加值增大(成本较低)。

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，特别涉及一种防反射膜及其制备方法。

背景技术

显示产品已经触及到各个领域，为了满足高品质及多功能产品需求，防眩光、高透过率、低反射率多功能屏已越来越受到客户的偏爱。因此，目前的显示产品在窗口玻璃区域一般要镀制防反射膜(Anti-Reflective，AR)。目前针对带有高品质AR膜类的显示产品，特别是AR+CG(保护玻璃)或AR+OGM(触控屏)产品，当前主要采用包括6层Nb₂O₅/SiO₂交替层叠镀制的AR膜。为了防止Nb和Si镀制时交叉污染，Nb₂O₅和SiO₂镀制的圈数较多(如在第一个腔体镀制Nb₂O₅，到下一个腔体镀制SiO₂和Nb₂O₅，再到下一个腔体镀制SiO₂和Nb₂O₅，最后到下一个腔体镀制SiO₂)，这样使镀制设备稼动率低、且镀制工艺过程过长，使得产品附加值降低。

发明内容

本发明实施例提供一种防反射膜及其制备方法，用以解决背景技术中采用Nb₂O₅和SiO₂制备AR膜时镀制的圈数较多，使镀制设备稼动率低、镀制工艺过程过长，使得产品附加值降低的问题。

本发明实施例提供了一种防反射膜，包括在基材上交替层叠镀制的SiN膜层和SiO₂膜层。

可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述防反射膜中，所述SiN膜层和SiO₂膜层的总层数为4层-6层。

可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述防反射膜中，包括在所述基材上交替层叠镀制的第一SiN膜层、第一SiO₂膜层、第二SiN膜层和第二SiO₂膜层。

可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述防反射膜中，还包括镀制在所述基材和所述第一SiN膜层之间的第三SiO₂膜层。

可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述防反射膜中，所述第一SiN膜层的厚度为所述第一SiO₂膜层的厚度为所述第二SiN膜层的厚度为所述第二SiO₂膜层的厚度为所述第三SiO₂膜层的厚度为

可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述防反射膜中，所述第一SiN膜层的厚度为所述第一SiO₂膜层的厚度为所述第二SiN膜层的厚度为所述第二SiO₂膜层的厚度为所述第三SiO₂膜层的厚度为

可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述防反射膜中，在可见光波段380nm-780nm，所述防反射膜的透光率大于92.5％。

可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述防反射膜中，所述基材为保护玻璃或设有触控模组的保护玻璃。

相应地，本发明实施例还提供了一种防反射膜的制备方法，包括：在基材上依次镀制交替层叠的SiN膜层和SiO₂膜层。