[发明专利]透射电子显微镜样品和样品杆的预处理装置

权利要求书

1.一种透射电子显微镜样品和样品杆的预处理装置，其特征在于，所述装置包括：

等离子清洗模块，其用于对TEM样品进行等离子清洗；

真空存储模块，其用于对TEM样品和/或样品杆进行真空存储；

真空泵组，其能够与所述等离子清洗模块和所述真空存储模块分别连通；以及

控制模块，其用于控制所述真空泵组与所述等离子清洗模块和/或所述真空存储模块连通；

其中，所述等离子清洗模块主要包括射频电源、等离子体发生器和清洗室，所述清洗室的内部形成有清洗腔，射频电源产生的振荡场激发进入等离子体发生器内的工艺气体产生等离子体，从而对所述清洗腔内的样品进行清洗，所述真空泵组与所述清洗室连通以便对上述清洗腔进行真空抽取，并且

所述清洗室连接有冷阱，所述冷阱的制冷方式为液氮冷却，以便通过冷指传输的方式加快所述清洗腔达到目标真空度的速度。

2.根据权利要求1所述的预处理装置，其特征在于，所述清洗室上设置有多个斜面，每个所述斜面上设置有端口，所述端口处装配有第一进样套筒，TEM样品通过第一进样套筒进入所述清洗腔，

其中，至少一对相邻的斜面之间具有夹角。

3.根据权利要求1所述的预处理装置，其特征在于，所述清洗室上设置有开口，所述开口处配置可开启的窗体，以便通过打开所述窗体的方式完成向所述清洗室的投放操作。

4.根据权利要求1所述的预处理装置，其特征在于，所述等离子体发生器上设置有供应所述工艺气体的至少一个外接气路，所述外接气路上配置有质量流量计，

所述控制模块还用于：

根据所述质量流量计的检测结果控制相应的外接气路通向等离子体发生器的腔体中的工艺气体的流量。

5.根据权利要求4所述的预处理装置，其特征在于，所述真空泵组配置有电磁阀组，所述电磁阀组包括第一电磁阀、第二电磁阀和第三电磁阀，

所述控制模块通过控制所述第一电磁阀、所述第二电磁阀、所述第三电磁阀来分别实现对所述等离子清洗模块的清洗腔的真空抽取、对所述真空存储模块的真空抽取、对所述等离子体发生器的腔体中的工艺气体供应。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的预处理装置，其特征在于，所述真空存储模块包括存储室，所述存储室包含至少一个存储工位，所述存储工位内形成有存储腔并连接有第二进样套筒，样品杆或者搭载组件经所述第二进样套筒进入所述存储腔。

7.根据权利要求6所述的预处理装置，其特征在于，所述搭载组件包括杆体以及分别设置于所述杆体的第一端和第二端的封堵部分和搭载部分，所述搭载组件能够沿从所述封堵部分到所述搭载部分的方向伸入所述存储工位，并且

在完全伸入的状态下，所述封堵部分和所述存储工位密封连接；

其中，所述搭载部分包括基体，所述基体上设置有安置单元，所述安置单元包括至少一个安置位，每个所述安置位能够将至少一个TEM样品保持于其中。

8.根据权利要求7所述的预处理装置，其特征在于，在所述存储工位的个数为多个的情形下，相邻的存储工位之间的距离相等或者不相等。

9.根据权利要求7所述的预处理装置，其特征在于，所述搭载部分以可拆卸的方式设置于所述杆体的第二端。

10.根据权利要求1所述的预处理装置，其特征在于，所述真空泵组包括彼此连接的隔膜泵和分子泵，所述分子泵能够与所述等离子清洗模块和所述真空存储模块分别连通。