[发明专利]改善光阻显影均匀性的方法

权利要求书

1.一种改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一基底，所述基底表面涂覆有光阻层，所述光阻层包括第一区域以及环绕所述第一区域外周分布的第二区域；

传输显影液至所述第二区域，对位于所述第二区域的所述光阻层进行显影；

传输显影液至所述第一区域，对位于所述第一区域的所述光阻层进行显影。

2.根据权利要求1所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，传输显影液至所述第二区域之前，还包括如下步骤：

清洗所述第二区域。

3.根据权利要求1所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，还包括如下步骤：

提供一用于喷射显影液的第一喷嘴；

控制所述第一喷嘴向所述第二区域喷射第二剂量的所述显影液，对位于所述第二区域的所述光阻层进行显影；

控制所述第一喷嘴向所述第一区域喷射第一剂量的所述显影液，对位于所述第一区域的所述光阻层进行显影，且所述第一剂量大于所述第二剂量。

4.根据权利要求3所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，所述第一喷嘴以第二流速向所述第二区域喷射所述显影液、并持续第二时间；

所述第一喷嘴以第一流速向所述第一区域喷射所述显影液、并持续第一时间，所述第一流速大于所述第二流速，且所述第一时间大于所述第二时间。

5.根据权利要求1所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，还包括如下步骤：

传输显影液至所述第二区域的同时，驱动所述基底围绕其轴线以第二转速自转；

传输显影液至所述第一区域的同时，驱动所述基底围绕其轴线以第一转速自转，且所述第一转速大于所述第二转速。

6.根据权利要求5所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，所述第二转速为50rpm～200rpm，所述第一转速为100rpm～300rpm。

7.根据权利要求5所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，对位于所述第一区域的所述光阻层进行显影之后，还包括如下步骤：

传输清洗液至所述第一区域的中心，并同时驱动所述基底围绕其轴线旋转，除去所述光阻层表面残留的所述显影液。

8.根据权利要求7所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，在传输清洗液至所述第一区域的中心的过程中，所述基底围绕其轴线以第三转速自转，所述第三转速大于所述第一转速。

9.根据权利要求8所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，除去所述光阻层表面残留的所述显影液之后，还包括如下步骤：

驱动所述基底围绕其轴线以第四转速自转，除去所述基底表面残留的所述清洗液，且所述第四转速大于所述第三转速。

10.根据权利要求1所述的改善光阻显影均匀性的方法，其特征在于，所述第一区域为圆形形状，所述第二区域为环绕所述第一区域的环形形状；

所述第二区域朝向所述第一区域一侧的边缘距离所述第一区域的中心的距离为80mm～120mm。