[发明专利]蚀刻装置及蚀刻方法有效

专利信息
申请号: 202010170494.3 申请日: 2020-03-12
公开(公告)号: CN111334799B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 李嘉 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: C23F1/08 分类号: C23F1/08;C23F1/16;G02F1/13
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 唐秀萍
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种蚀刻装置,其特征在于,包括:

检测系统;

投料系统,所述投料系统与所述检测系统连接;

储液系统,所述储液系统与所述投料系统连接;

蚀刻系统,所述蚀刻系统与所述储液系统连接,且所述蚀刻系统与所述检测系统连接,所述蚀刻系统与所述投料系统连接;以及

排液系统,所述排液系统与所述蚀刻系统连接;

其中,所述储液系统用以向所述蚀刻系统提供蚀刻液,以完成第一金属层蚀刻,所述储液系统还用于向所述投料系统提供所述蚀刻液以溶解及混合所述投料系统内的蚀刻材料,所述检测系统用以检测所述蚀刻系统内的蚀刻液的含量,并控制所述投料系统向所述蚀刻系统投放蚀刻材料,以完成第二金属层蚀刻,其中所述投料系统与所述储液系统内储存有不同的蚀刻液以及蚀刻材料。

2.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述投料系统包括驱动电机、至少一蚀刻材料收纳箱以及反应室,所述驱动电机与所述蚀刻材料收纳箱连接并驱动所述蚀刻材料收纳箱向所述投料系统投放所述蚀刻材料。

3.根据权利要求2所述的蚀刻装置,其特征在于,所述投料系统还包括循环泵、进液管以及出液管,所述反应室通过所述进液管与所述储液系统连接,所述反应室通过所述出液管与所述蚀刻系统连接。

4.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻材料包括铜酸以及添加剂。

5.根据权利要求4所述的蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻材料中所述添加剂的质量百分数为0.001%~1%。

6.根据权利要求4所述的蚀刻装置,其特征在于,所述添加剂包括唑类添加剂。

7.根据权利要求2所述的蚀刻装置,其特征在于,所述驱动电机包括步进电机。

8.一种蚀刻方法,其特征在于,包括如下步骤:

S100:将蚀刻产品放入蚀刻系统中,并向储液系统和所述蚀刻系统注入蚀刻液;

S101:对所述蚀刻产品进行蚀刻并形成第一金属层;

S102:向投料系统中加入蚀刻材料,将所述储液系统中的所述蚀刻液提供至所述投料系统中以溶解及混合所述投料系统内的所述蚀刻材料,其中所述投料系统与所述储液系统内储存有不同的蚀刻液以及蚀刻材料,所述蚀刻材料混合均匀后,形成混合溶液,并将所述混合溶液输入到所述蚀刻系统中;

S103:对所述蚀刻产品进行第二次蚀刻,并形成第二金属层;

S104:通过排液系统排出多余的蚀刻液,并对所述蚀刻系统以及所述蚀刻产品进行清洗,完成蚀刻。

9.根据权利要求8所述的蚀刻方法,其特征在于,所述步骤S102中,所述蚀刻材料包括铜酸以及添加剂,所述添加剂与所述铜酸在反应室内充分混合,并通过出液管输送至所述蚀刻系统内。

10.根据权利要求9所述的蚀刻方法,其特征在于,通过搅拌,使所述添加剂与所述铜酸充分混合,搅拌时间不小于3min。

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