[发明专利]一种基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法有效
申请号: | 202010170790.3 | 申请日: | 2020-03-12 |
公开(公告)号: | CN111489846B | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 魏春华;梁磊;马军;左承林;岳廷瑞;尹熹伟;刘垒 | 申请(专利权)人: | 中国空气动力研究与发展中心低速空气动力研究所 |
主分类号: | G21K1/00 | 分类号: | G21K1/00;G21K1/093 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清 |
地址: | 621000 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 三维 边带 冷却 光学 bec 制备 方法 | ||
1.一种基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,步骤为:
步骤S1:冷原子团的制备;
步骤S2:偏振梯度冷却;
步骤S3:三维拉曼边带冷却;一团原子通过磁光阱被冷却并制备在超精细基态上;关闭磁光阱的光和磁场,打开光晶格,将每个原子绝热的装载进入各个晶格点中,并根据其初始动量占据一组振动态;引入一个微小的磁场,使得不同磁子能级状态之间产生塞曼分裂,通过泵浦光使得原子团冷却至暗态;
步骤S4:光偶极阱装载;在拉曼边带冷却末端,将偶极光的功率线性增加,当功率达到实验状态时关闭光晶格光,使原子团从光晶格向光阱的绝热装载;
步骤S5:逃逸蒸发冷却;
步骤S6:通过不断降低光阱深度,实现逃逸蒸发冷却过程,最终制备出BEC。
2.根据权利要求1所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,在步骤S1中,通过X-Y-Z三个方向六束冷却光和回泵光形成磁光阱,囚禁一团原子数约为109的原子团。
3.根据权利要求1所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,在步骤S2中,在一定时间内,线性降低冷却光的功率,同时增加冷却光的失谐至-100MHz,完成偏振梯度冷却过程,得到温度约为15μk的冷原子团,此时原子团数目不变。
4.根据权利要求1所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,在步骤S3中,通过泵浦光使得原子团冷却至暗态,此时原子团温度为500nK,原子团数目与磁光阱时保持不变,为109个。
5.根据权利要求1所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,在步骤S5中,在3-4秒的时间内,线性降低偶极光的功率,最终降为初始功率的10%,以此降低阱深,实现逃逸蒸发冷却过程。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,在上述步骤中,采用冷却光、回泵光、探测光、晶格光、泵浦光和偶极光;所述偶极光的波长为1064nm,晶格光为红失谐,失谐量大于10GHz。
7.根据权利要求6所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,所述三维拉曼边带冷却采用五束光,四束晶格光和一束泵浦光,四束晶格光为线偏振光,分布在真空腔的两个对称面,每个面上两束晶格光的夹角为90°,且两个面上两个晶格光形成的平面夹角为90°;五束光均照射至原子团中心;光偶极阱所需的激光波长为1064nm,在原子团处的束腰半径小于200μm,每束偶极激光功率大于10W。
8.根据权利要求1-5中任意一项所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,冷却所用原子为Rb87原子。
9.根据权利要求8所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,在进行87Rb原子的三维拉曼边带冷却时,87Rb原子的超精细基态选择是,并采用基态和激发态;其中F代表基态,F’代表激发态。
10.根据权利要求8所述的基于三维拉曼边带冷却的全光学BEC制备方法,其特征在于,在进行87Rb原子的三维拉曼边带冷却时,泵浦激发态采用以下两种方式中的一种:
(a)将做为泵浦后的激发态,只需要偏振的泵浦光;其中F’代表激发态;
(b)将做为泵浦后的激发态时,同时需要和偏振的泵浦光。
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