[发明专利]一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法有效
申请号: | 202010170852.0 | 申请日: | 2020-03-12 |
公开(公告)号: | CN111364091B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 李建中;唐超;李旭东;王鹏;李秀军;兰剑;徐清亮 | 申请(专利权)人: | 东北大学;宝山钢铁股份有限公司 |
主分类号: | C25D21/18 | 分类号: | C25D21/18;C25D3/08;C25D21/12 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 陈玲玉 |
地址: | 110819 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 耦合 作用 去除 镀铬 溶液 杂质 离子 方法 | ||
1.一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法,其特征在于,镀铬溶液包括金属铬段镀液和氧化铬段镀液两种,镀铬生产线新配置的金属铬段镀液和氧化铬段镀液,其中金属铬段镀液包括:CrO3 140~160g/L,NH4F 3~4g/L,各杂质离子分别的浓度均不超过5mg/L;氧化铬段镀液包括:CrO3 60~70g/L,NH4F 1~2g/L,各杂质离子分别的浓度均不超过5mg/L;
随着生产运行,镀液中各杂质离子逐渐聚集增多,当金属铬段镀液中同时满足全铁离子浓度大于0.8g/L,Al3+浓度大于0.5g/L,Ti、Si、Mg杂质离子含量分别大于0.1g/L时,镀液杂质离子对镀铬板表面金属铬层的质量有明显地影响,判断该金属铬段镀液需要净化;
当氧化铬段镀铬溶液中同时满足全铁离子浓度大于90mg/L,Al3+浓度大于50mg/L,Ti、Si、Mg杂质离子含量分别大于40mg/L时,镀液杂质离子对镀铬板表面氧化铬层的质量有明显地影响,判断该氧化铬段镀液需要净化;
去除两种镀铬溶液中杂质离子的净化方法包括步骤如下:
1)镀液中低价杂质离子氧化控制
将H2O2溶液以与待净化镀液质量比1~1.2:100加入待净化镀液中,将铬镀液中的Fe2+氧化为Fe3+;
2)杂质离子热力学耦合沉降过程
对于金属铬段镀液,其溶液pH值为0.9~1.1,利用氨水调节金属铬镀液pH值至3~5,同时,将二氧化锰以与待净化镀液质量比1~5:100加入到待净化镀液中促进残余二价铁向三价铁离子的彻底转化;并以300~500r/min的速度机械搅拌30min,在此过程中三价铁离子以氢氧化铁的形式完全沉淀;并在热力学耦合作用下,镀液中的铝离子、钛离子分别以氢氧化铝和氢氧化钛的形式进入氢氧化铁晶体内,达到热力学耦合作用的镀液中杂质离子的共沉淀;
对于氧化铬段镀液,其溶液pH值为1.2~1.5,利用氨水调节金属铬镀液pH值至5~7,同时,将二氧化锰以与待净化镀液质量比1:100~5:100加入到待净化镀液中促进残余二价铁向三价铁离子的彻底转化;并以300~500r/min的速度机械搅拌30min,在此过程中三价铁离子以氢氧化铁的形式完全沉淀;并在热力学耦合作用下,镀液中的铝离子、钛离子分别以氢氧化铝和氢氧化钛的形式进入氢氧化铁晶体内,达到热力学耦合作用的镀液中杂质离子的共沉淀;
3)液固分离过程
将步骤2)金属铬段和氧化铬段镀液分别采用离心沉降,实现固液分离,固相为沉淀的杂质颗粒,液相为无杂质离子的含铬氟镀液;
4)含铬氟滤液的应用性调控
对于金属铬段镀液,向pH值为3~5的含铬氟滤液中加入氢氟酸和铬酐,调节其pH值至0.9~1.1,其溶液含铬量达到CrO3 140~160g/L,含氟量达到NH4F 3~4g/L;
对于氧化铬段镀液,向pH值为5~7的含铬氟滤液中加入氢氟酸和铬酐,调节其pH值至1.2~1.5,其溶液含铬量达到CrO360~70g/L,含氟量达到NH4F 1~2g/L。
2.根据权利要求1所述的一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法,其特征在于,3)液固分离过程中:离心沉降参数1000~2000r/min。
3.根据权利要求1所述的一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法,其特征在于,1)镀液中低价杂质离子氧化控制:所加入的H2O2溶液的质量浓度为30%。
4.根据权利要求1所述的一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法,其特征在于,2)杂质离子热力学耦合沉降过程:用来调节镀液pH所采用的氨水的质量浓度为25%~28%。
5.根据权利要求1所述的一种基于耦合作用去除镀铬溶液中杂质离子的方法,其特征在于,4)含铬氟滤液的应用性调控,向滤液中加入的氢氟酸溶液的质量浓度为30%。
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