[发明专利]一种耐热、可降解的辐射制冷薄膜及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种耐热、可降解的辐射制冷薄膜，其特征在于，包括依次设置的辐射制冷层、反射层和保护层，其中，所述辐射制冷层包括聚乳酸基体以及分散于所述聚乳酸基体中的制冷微粒和选择性成核剂，所述聚乳酸基体包括聚L-乳酸与聚D-乳酸的熔融混合物、光稳定剂和偶联剂，所述反射层为金属层，其中，所述选择性成核剂为含水滑石的磷酸酯的铝配合物、多壁碳纳米管接枝的聚乳酸、苯基磷酸锌、对二甲苯双烷基脲或商用TMB-5成核剂中的至少一种；所述制冷微粒为二氧化硅、三氧化二铝、二氧化钛或碳化硅中的至少一种；按照重量份数计，所述辐射制冷层包括聚L-乳酸50-85份、聚D-乳酸15-50份、选择性成核剂0.1-1份、制冷微粒2-19份、光稳定剂0.1-1份和偶联剂0.02-0.19份。

2.根据权利要求1所述的耐热、可降解的辐射制冷薄膜，其特征在于，所述辐射制冷层厚度为35-80μm。

3.根据权利要求1所述的耐热、可降解的辐射制冷薄膜，其特征在于，所述聚L-乳酸和聚D-乳酸的质量比为1-5.67:1。

4.根据权利要求1所述的耐热、可降解的辐射制冷薄膜，其特征在于，所述反射层为镀银，其厚度为0.08-0.25μm。

5.根据权利要求1所述的耐热、可降解的辐射制冷薄膜，其特征在于，所述保护层为氧化硅镀层，其厚度为0.04-0.18μm。

6.根据权利要求1所述的耐热、可降解的辐射制冷薄膜，其特征在于，所述偶联剂为硅烷偶联剂KH550，KH560，KH570中的至少一种，含量为所述制冷微粒重量的0.5-1wt％；

所述光稳定剂为UV326、UV329、UV1164、UV5050、SORB2020、UV-P中的至少一种。

7.一种权利要求1-6任一项所述的耐热、可降解的辐射制冷薄膜的制备方法，其特征在于，其包括：

S1，预处理：干燥聚L-乳酸和聚D-乳酸，并通过偶联剂对制冷微粒进行表面处理得到预处理制冷微粒；

S2，混料：将干燥后的聚L-乳酸和聚D-乳酸混合并加热至60-70℃，搅拌下依次加入选择性成核剂、光稳定剂和预处理制冷颗粒，并继续搅拌15-30min，测定水含量低于0.1wt％时，出料得混合物；

S3，挤出造粒：将上述混合物加入双螺杆挤出机进行加工，其中，螺杆长径比为30-60:1，挤出机温度为200-210℃，螺杆转速为50-300rpm，经水冷、切粒和干燥得到母粒；

S4，流延成膜：将所述母粒投入流延机中，通过T型模口流延至激冷辊上成膜得到流延膜，其中，流延温度为220-230℃，螺杆转速20-80rpm，激冷辊温度为20-60℃；

S5，在所述流延膜上镀膜制得反射层和保护层。

8.一种如权利要求1-6任一项所述的耐热、可降解的辐射制冷薄膜的用途，其特征在于，用于车衣、座椅罩、建筑物、线缆、基站、户外帐篷。